论文目录 | |
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 引言 | 第20-22页 |
| 第2章 文献综述 | 第22-52页 |
| 2.1 MAX相陶瓷材料 | 第22-26页 |
| 2.2 Nb_4AlC_3晶体结构 | 第26-30页 |
| 2.3 Nb_4AlC_3制备工艺 | 第30-34页 |
| 2.3.1 热压烧结 | 第31-32页 |
| 2.3.2 放电等离子烧结 | 第32-33页 |
| 2.3.3 自蔓延高温合成 | 第33-34页 |
| 2.4 Nb_4AlC_3性能 | 第34-45页 |
| 2.4.1 力学性能 | 第34-43页 |
| 2.4.2 热学性能 | 第43-44页 |
| 2.4.3 抗氧化性能 | 第44-45页 |
| 2.5 MXene二维材料的制备与性能 | 第45-49页 |
| 2.6 Nb_4AlC_3应用前景 | 第49-50页 |
| 2.7 本文的研究意义和主要研究内容 | 第50-52页 |
| 第3章 测试与表征 | 第52-56页 |
| 3.1 实验原料 | 第52页 |
| 3.2 物理性能 | 第52-55页 |
| 3.2.1 密度 | 第52-53页 |
| 3.2.2 相组成 | 第53页 |
| 3.2.3 微观形貌 | 第53页 |
| 3.2.4 晶粒尺寸 | 第53页 |
| 3.2.5 热膨胀系数 | 第53页 |
| 3.2.6 热导率 | 第53-54页 |
| 3.2.7 弯曲强度 | 第54页 |
| 3.2.8 弹性模量 | 第54页 |
| 3.2.9 断裂韧性 | 第54页 |
| 3.2.10 维氏硬度 | 第54-55页 |
| 3.2.11 抗氧化性能 | 第55页 |
| 3.3 电化学性能 | 第55-56页 |
| 3.3.1 循环伏安曲线 | 第55页 |
| 3.3.2 电化学阻抗谱 | 第55页 |
| 3.3.3 恒电流充放电曲线 | 第55-56页 |
| 第4章 Nb_4AlC_3及其固溶材料的制备与性能 | 第56-86页 |
| 4.1 引言 | 第56-57页 |
| 4.2 实验过程 | 第57-58页 |
| 4.3 Nb_4AlC_3的制备与性能 | 第58-64页 |
| 4.3.1 Nb_4AlC_3物相组成 | 第58-60页 |
| 4.3.2 Nb_4AlC_3微观形貌 | 第60-61页 |
| 4.3.3 Nb_4AlC_3形成机理 | 第61-63页 |
| 4.3.4 Nb_4AlC_3性能 | 第63-64页 |
| 4.4 Ta固溶Nb_4AlC_3的制备与性能 | 第64-74页 |
| 4.4.1 Ta固溶Nb_4AlC_3的物相组成 | 第64-65页 |
| 4.4.2 Ta固溶Nb_4AlC_3的微观形貌 | 第61-70页 |
| 4.4.3 Ta固溶Nb_4AlC_3的力学性能 | 第70-73页 |
| 4.4.4 Ta固溶Nb_4AlC_3的热学性能 | 第73-74页 |
| 4.5 W固溶Nb_4AlC_3的制备与性能 | 第74-84页 |
| 4.5.1 W固溶Nb_4AlC_3的物相组成 | 第74-76页 |
| 4.5.2 W固溶Nb_4AlC_3的微观形貌 | 第76-80页 |
| 4.5.3 W固溶Nb_4AlC_3的力学性能 | 第80-82页 |
| 4.5.4 W固溶Nb_4AlC_3的热学性能 | 第82-84页 |
| 4.6 本章小结 | 第84-86页 |
| 第5章 Nb_4AlC_3及其固溶材料的抗氧化性能 | 第86-118页 |
| 5.1 引言 | 第86-87页 |
| 5.2 实验过程 | 第87-89页 |
| 5.3 Nb_4AlC_3的抗氧化性能 | 第89-94页 |
| 5.3.1 Nb_4AlC_3氧化膜相组成 | 第89-90页 |
| 5.3.2 Nb_4AlC_3氧化膜微观形貌 | 第90-91页 |
| 5.3.3 Nb_4AlC_3氧化机理 | 第91-92页 |
| 5.3.4 Nb_4AlC_3氧化增重 | 第92-94页 |
| 5.4 Ta或W固溶Nb_4AlC_3的抗氧化性能 | 第94-96页 |
| 5.5 Nb_4AlC_3及其固溶材料表面抗氧化层的制备 | 第96-102页 |
| 5.5.1 硅化物抗氧化层物相组成 | 第96-97页 |
| 5.5.2 硅化物抗氧化层微观形貌 | 第97-99页 |
| 5.5.3 硅化物抗氧化层形成机理 | 第99-102页 |
| 5.6 渗硅后Nb_4AlC_3的抗氧化性能 | 第102-107页 |
| 5.6.1 渗硅后Nb_4AlC_3的氧化膜相组成 | 第102-103页 |
| 5.6.2 渗硅后Nb_4AlC_3的氧化膜微观形貌 | 第103-104页 |
| 5.6.3 渗硅后Nb_4AlC_3的氧化机理 | 第104-105页 |
| 5.6.4 渗硅后Nb_4AlC_3的氧化增重 | 第105-107页 |
| 5.7 渗硅后Ta固溶Nb_4AlC_3的抗氧化性能 | 第107-111页 |
| 5.7.1 渗硅后Ta固溶Nb_4AlC_3的氧化膜相组成及微观结构 | 第107-109页 |
| 5.7.2 渗硅后Ta固溶Nb_4AlC_3的氧化增重 | 第109-111页 |
| 5.8 渗硅后W固溶Nb_4AlC_3的抗氧化性能 | 第111-116页 |
| 5.8.1 渗硅后W固溶Nb_4AlC_3的氧化膜相组成及微观结构 | 第111-113页 |
| 5.8.2 渗硅后W固溶Nb_4AlC_3的氧化增重 | 第113-116页 |
| 5.9 本章小结 | 第116-118页 |
| 第6章 (Nb,Me)_4C_3T_x的制备与性能 | 第118-132页 |
| 6.1 引言 | 第118-119页 |
| 6.2 实验过程 | 第119-120页 |
| 6.3 (Nb,Me)_4C_3T_x的制备 | 第120-126页 |
| 6.3.1 (Nb,Me)_4C_3T_x物相组成 | 第120-125页 |
| 6.3.2 (Nb, Me)_4C_3T_x微观形貌 | 第125-126页 |
| 6.4 (Nb, Me)_4C_3T_x的性能 | 第126-130页 |
| 6.4.1 (Nb, Me)_4C_3T_x循环伏安曲线 | 第126-127页 |
| 6.4.2 (Nb, Me)_4C_3T_x恒电流充放电曲线 | 第127-128页 |
| 6.4.3 (Nb, Me)_4C_3T_x循环性能和倍率性能 | 第128-130页 |
| 6.5 本章小结 | 第130-132页 |
| 第7章 总结与展望 | 第132-136页 |
| 7.1 全文总结 | 第132-134页 |
| 7.2 展望 | 第134-136页 |
| 参考文献 | 第136-152页 |
| 致谢 | 第152-154页 |
| 作者简历 | 第154-156页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文和研究成果 | 第156-157页 |
