论文目录 | |
摘要 | 第1-8
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Abstract | 第8-13
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目录 | 第13-17
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第一章 绪论 | 第17-36
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· 自旋电子学概述 | 第17-20
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· 稀磁半导体的磁性机理 | 第20-27
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· RKKY作用 | 第21-22
页 |
· 平均场理论 | 第22-23
页 |
· 双交换作用 | 第23-25
页 |
· 超交换作用 | 第25-26
页 |
· 束缚极化子模型(BMP) | 第26-27
页 |
· d0铁磁性 | 第27-28
页 |
· 纳米材料[36] | 第28-31
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· 纳米材料概述 | 第28-30
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· 纳米材料的制备 | 第30
页 |
· 纳米材料的特性 | 第30-31
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· SnO_2的结构和基本性质 | 第31-32
页 |
· 本论文的研究动机和课题选取 | 第32-33
页 |
参考文献 | 第33-36
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第二章 SnO_2和SnO_2基半导体材料的制备和表征 | 第36-67
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· 溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第36-46
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· 溶胶-凝胶法的基本原理 | 第37-38
页 |
· 溶胶-凝胶法的工艺过程 | 第38-40
页 |
· 溶胶-凝胶法制备薄膜样品的方法 | 第40-42
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· 溶胶-凝胶法制备Sn_(1-x)V_xO_2薄膜 | 第42-46
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· 化学气相沉积法(CVD) | 第46-51
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· 化学气相沉积的基本原理 | 第46-47
页 |
· 化学气相沉积的工艺及设备 | 第47-48
页 |
· 化学气相沉积的工艺参数 | 第48
页 |
· 气-液-固(V-L-S)生长机制和气-固(V-S)生长机制 | 第48-51
页 |
· 碳热还原法(carbothermal reduction) | 第51
页 |
· 材料的测试与表征 | 第51-63
页 |
· X射线衍射(XRD) | 第51-53
页 |
· 扫描电子显微镜(SEM) | 第53-54
页 |
· 高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和选区电子衍射(SEAD) | 第54-55
页 |
· X射线光电子谱(XPS) | 第55
页 |
· 磁性测量 | 第55-60
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· 紫外-可见吸收光谱法 | 第60-61
页 |
· 拉曼发光光谱(Raman) | 第61-62
页 |
· 光致发光光谱 | 第62-63
页 |
· 四探针法 | 第63
页 |
参考文献 | 第63-67
页 |
第三章 Sn_(1-x)V_xO_2薄膜样品的结构和磁性研究 | 第67-85
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· 引言 | 第67-68
页 |
· Sn_(1-x)V_xO_2薄膜的制备 | 第68-69
页 |
· Sn_(1-x)V_xO_2薄膜的XRD表征 | 第69-70
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· Sn_(1-x)V_xO_2薄膜的形貌表征 | 第70-72
页 |
· Sn_(1-x)V_xO_2薄膜的XPS表征 | 第72-73
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· Sn_(1-x)V_xO_2薄膜的磁性性质 | 第73-76
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· Sn_(1-x)V_xO_2薄膜的VSM研究 | 第73-74
页 |
· Sn_(1-x)V_xO_2薄膜的SQUID研究 | 第74-76
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· Sn_(1-x)V_xO_2薄膜的输运性质 | 第76-78
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· Sn_(1-x)V_xO_2薄膜的光学性质 | 第78-79
页 |
· Sn_(1-x)V_xO_2薄膜的磁性机理讨论 | 第79-80
页 |
· Sn_(1-x)V_xO_2薄膜的回火处理研究 | 第80-82
页 |
· 在真空和氧气环境下的回火处理 | 第80-82
页 |
· Sn蒸气下的回火处理 | 第82
页 |
· 本章小结 | 第82-83
页 |
参考文献 | 第83-85
页 |
第四章 SnO_2纳米材料的结构与磁性 | 第85-129
页 |
· 引言 | 第85-86
页 |
· SnO_2纳米材料的制备 | 第86-88
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· 衬底处理 | 第86-87
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· 样品制备 | 第87-88
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· 反应温度对产物形貌和磁性的影响 | 第88-93
页 |
· 反应产物的形貌与结构 | 第88-90
页 |
· 反应产物的生长率 | 第90-91
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· 反应产物的磁性 | 第91-92
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· 反应产物的光致发光特性 | 第92-93
页 |
· 小结 | 第93
页 |
· 反应气体O_2流量对产物形貌和磁性的影响 | 第93-102
页 |
· 反应产物的形貌与结构 | 第94-97
页 |
· 反应产物的生产量 | 第97-98
页 |
· 反应产物的磁性 | 第98-99
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· 反应产物的光致发光特性 | 第99-100
页 |
· 反应产物的XPS谱图研究 | 第100-101
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· 小结 | 第101-102
页 |
· 载气Ar流量对产物形貌和磁性的影响 | 第102-106
页 |
· 反应产物的形貌与结构 | 第102-104
页 |
· 反应产物的生长量 | 第104-105
页 |
· 反应产物的磁性 | 第105
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· 反应产物的光致发光特性 | 第105
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· 小结 | 第105-106
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· 催化剂层的厚度对产物形貌和磁性的影响 | 第106-112
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· 反应产物的形貌与结构 | 第106-108
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· SnO_2纳米线的生长机理研究 | 第108-109
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· 反应产物的生产量 | 第109
页 |
· 反应产物的磁性 | 第109-111
页 |
· 反应产物的光致发光特性 | 第111
页 |
· 小结 | 第111-112
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· 衬底材料对产物性形貌和磁性的影响 | 第112-114
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· 反应产物的形貌与结构 | 第112-113
页 |
· 反应产物的生产量 | 第113-114
页 |
· 反应产物的磁性 | 第114
页 |
· 反应产物的光致发光特性 | 第114
页 |
· 小结 | 第114
页 |
· SnO_2纳米材料的磁性机理讨论 | 第114-124
页 |
· SnO_2纳米材料磁性的本征性证明 | 第115-117
页 |
· SnO_2纳米材料的比表面积变化对磁性的影响 | 第117-120
页 |
· SnO_2纳米材料的回火处理研究 | 第120-124
页 |
· 本章小结 | 第124-125
页 |
参考文献 | 第125-129
页 |
第五章 Sn_(1-x)Cr_xO_(2-d)纳米线的结构与磁性 | 第129-142
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· 引言 | 第129-130
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· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-d)纳米线的制备 | 第130
页 |
· Sn_(1-x)Cr_xO__(2-δ)纳米线的成分测量 | 第130-131
页 |
· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-A)纳米线的形貌与结构 | 第131-133
页 |
· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-δ)纳米线的SEM图像 | 第131
页 |
· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-δ)纳米线的XRD谱图 | 第131-133
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· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-δ)纳米线的TEM和SAED图像 | 第133
页 |
· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-δ)纳米线的XPS测量 | 第133-134
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· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-δ)纳米线的磁性测量 | 第134-137
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· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-δ)纳米线的VSM研究 | 第134-136
页 |
· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-δ)纳米线SQUID研究 | 第136-137
页 |
· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-δ)纳米线的磁性机理讨论 | 第137-139
页 |
· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-δ)纳米线的光致发光测量 | 第138-139
页 |
· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-δ)纳米线的XPS测量 | 第139
页 |
· 结果分析与讨论 | 第139
页 |
· 本章小结 | 第139-140
页 |
参考文献 | 第140-142
页 |
第六章 SnO_2和Sn_(1-x)Cu_xO_(2-δ)纳米线的结构与磁性 | 第142-155
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· 引言 | 第142
页 |
· Sn_(1-x)Cu_xO_(2-δ)纳米线的制备 | 第142-143
页 |
· Sn_(1-x)Cr_xO_(2-δ)纳米线的成分测量 | 第143-144
页 |
· Sn_(1-x)Cu_xO_(2-δ)纳米线的形貌与结构 | 第144-147
页 |
· Sn_(1-x)Cu_xO_(2-δ)纳米线的SEM图像 | 第144-145
页 |
· Sn_(1-x)Cu_xO_(2-δ)纳米线的XRD谱图 | 第145-146
页 |
· Sn_(1-x)Cu_xO_(2-δ)纳米线的HRTEM和SAED图像 | 第146-147
页 |
· Sn_(1-x)Cu_xO_(2-δ)纳米线的拉曼光谱分析 | 第147
页 |
· Sn_(1-x)Cu_xO_(2-δ)纳米线的生长机理 | 第147-152
页 |
· Sn_(1-x)Cu_xO_(2-δ)纳米线的磁学性质 | 第152-153
页 |
· 本章小结 | 第153-154
页 |
参考文献 | 第154-155
页 |
第七章 结论 | 第155-157
页 |
附录 | 第157-160
页 |
致谢 | 第160页 |