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砷化镓表面运动约束刻蚀抛光实验与仿真研究

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砷化镓表面运动约束刻蚀抛光实验与仿真研究
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-8页
第1章 绪论第8-18页
  1.1 课题来源及研究的背景和意义第8-10页
    1.1.1 课题的来源第8页
    1.1.2 课题研究的背景和意义第8-10页
  1.2 国内外研究现状与分析第10-17页
    1.2.1 现有抛光加工方法概述第10-14页
    1.2.2 约束刻蚀剂层技术的研究现状第14-16页
    1.2.3 研究现状分析第16-17页
  1.3 论文的主要研究内容第17-18页
第2章 运动模式约束刻蚀抛光的原理与实现第18-33页
  2.1 引言第18页
  2.2 约束刻蚀剂层技术基本反应原理第18-19页
  2.3 约束刻蚀剂层技术用于抛光加工的原理第19-24页
    2.3.1 化学抛光加工的原理第19-22页
    2.3.2 约束刻蚀剂层技术用于抛光加工的原理分析第22-24页
  2.4 运动模式约束刻蚀抛光工艺的实现第24-32页
    2.4.1 化学反应体系第24-25页
    2.4.2 电化学微纳米加工平台第25-28页
    2.4.3 运动模式约束刻蚀抛光工艺的实验方法第28-31页
    2.4.4 刻蚀结果的表征第31-32页
  2.5 本章小结第32-33页
第3章 运动模式约束刻蚀抛光的工艺实验研究第33-54页
  3.1 引言第33页
  3.2 实验方案设计第33-36页
    3.2.1 无约束剂三因素实验方案第34-35页
    3.2.2 含约束剂三因素实验方案第35-36页
    3.2.3 约束剂浓度与运动速度的两因素实验方案第36页
  3.3 实验结果与统计分析第36-49页
    3.3.1 实验结果第36-41页
    3.3.2 选择回归模型第41-43页
    3.3.3 回归模型方差分析第43-45页
    3.3.4 响应面结果与讨论第45-49页
  3.4 运动约束刻蚀抛光加工表面形貌对比分析第49-53页
    3.4.1 制作对比样品第49-50页
    3.4.2 表面形貌的对比第50-53页
  3.5 本章小结第53-54页
第4章 运动模式约束刻蚀抛光过程的仿真研究第54-74页
  4.1 引言第54页
  4.2 三维约束刻蚀流场的有限元仿真模拟第54-60页
    4.2.1 三维运动约束刻蚀稳态有限元模型的建立第55-57页
    4.2.2 三维稳态模型的设定第57-58页
    4.2.3 三维约束刻蚀浓度分布的稳态求解分析第58-60页
  4.3 二维动网格约束刻蚀过程有限元分析第60-64页
    4.3.1 二维动网格约束刻蚀过程有限元建立第61页
    4.3.2 二维动网格约束刻蚀有限元模型的设定第61-63页
    4.3.3 二维动网格约束刻蚀过程有限元分析第63-64页
  4.4 实验过程的有限元仿真分析第64-73页
    4.4.1 无约束剂三因素实验过程的仿真模拟第64-67页
    4.4.2 含约束剂三因素实验过程的仿真模拟第67-69页
    4.4.3 运动参数对约束刻蚀过程的影响作用分析第69-73页
  4.5 本章小结第73-74页
结论第74-75页
参考文献第75-80页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第80-82页
致谢第82页

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