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感应加热式MOCVD反应室的仿真与设计
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感应加热式MOCVD反应室的仿真与设计
论文目录
 
摘要第1-7页
Abstract第7-13页
第一章 绪论第13-29页
　　· 研究背景及意义第13-20页
　　　　· 金属有机化学气相沉积（MOCVD）设备概述第13-16页
　　　　· 几种常见的MOCVD反应室第16-19页
　　　　· MOCVD研究目的和意义第19-20页
　　· 国内外MOCVD技术发展及现状第20-26页
　　　　· MOCVD国外研究现状第20-23页
　　　　· 国内MOCVD设备的发展和研究现状第23-26页
　　· 本文主要的研究工作第26-29页
第二章 感应加热式MOCVD反应室的数学模型第29-41页
　　· 感应加热原理第30-31页
　　　　· 感应加热第30页
　　　　· 集肤效应和集肤深度第30-31页
　　· 几何模型第31-32页
　　· 控制方程第32-34页
　　　　· 磁场方程第32-34页
　　　　· 热传递方程第34页
　　· 边界条件的确定第34-35页
　　　　· 电磁边界条件第34页
　　　　· 热边界条件第34-35页
　　· 数值计算方法第35-37页
　　　　· 有限元法简介第35-36页
　　　　· 有限元分析软件第36-37页
　　· 仿真过程第37页
　　· 网格划分和物性参数第37-39页
　　· 本章小结第39-41页
第三章 MOCVD反应室的电磁场分析第41-53页
　　· 反应室内磁场分布与外加参数间关系第41-44页
　　　　· 线圈匝数与磁场间的关系第41-42页
　　　　· 电流频率与磁场间的关系第42-43页
　　　　· 电流强度对磁场分布的影响第43-44页
　　· 焦耳热与外加参数间的关系第44-50页
　　　　· 感生电流和焦耳热的分布第44-45页
　　　　· 线圈匝数对焦耳热分布的影响第45-46页
　　　　· 激励电流频率对焦耳热分布的影响第46-47页
　　　　· 激励电流强度对焦耳热分布的影响第47-49页
　　　　· 线圈间距对焦耳热分布的影响第49-50页
　　· 单片二英寸反应室电磁场的三维仿真第50-51页
　　· 本章小结第51-53页
第四章 MOCVD反应室内温度场分析第53-67页
　　· 不同对流换热系数对温度分布的影响第53-55页
　　· 不同加热时间对温度分布的影响第55-56页
　　· 外加电流参数对温度分布的影响第56-57页
　　　　· 电流强度与衬底温度分布的关系第56-57页
　　　　· 电流频率与衬底温度分布的关系第57页
　　· 线圈匝数、间距和半径对温度分布的影响第57-59页
　　　　· 线圈匝数与衬底温度分布的关系第58页
　　　　· 线圈间距与衬底温度分布的关系第58-59页
　　　　· 线圈半径与衬底温度的关系第59页
　　· 基座与线圈的相对位置及基座的高对温度的影响第59-62页
　　　　· 基座与线圈的相对位置对温度的影响第60-61页
　　　　· 基座高度对衬底温度的影响第61-62页
　　· 热偶孔的大小对温度的影响第62-66页
　　　　· 热偶孔的高度对温度的影响第62-64页
　　　　· 热偶孔的半径对温度的影响第64-66页
　　· 本章小结第66-67页
第五章 MOCVD反应室内温度场的优化第67-83页
　　· 基座优化的基本思想第67-68页
　　· 刻槽基座的优化分析第68-72页
　　　　· 槽深D对衬底温度分布的影响第68-69页
　　　　· 槽顶距L对衬底温度分布的影响第69-70页
　　　　· 槽高W对衬底温度分布的影响第70页
　　　　· 基座高H对衬底温度分布的影响第70-72页
　　· 刻槽基座的热分析第72-74页
　　　　· 基座温度分布随加热时间的变化第72-73页
　　　　· 槽上一线的温度分布随时间的变化第73-74页
　　　　· 衬底温度随时间的变化第74页
　　· 刻槽优化基座的热稳定性分析第74-78页
　　　　· 电流频率对衬底温度分布稳定性的影响第75-76页
　　　　· 线圈匝数对衬底温度分布稳定性的影响第76-77页
　　　　· 外加电流强度对衬底温度分布稳定性的影响第77-78页
　　· 四、六英寸刻槽结构基座的优化第78-80页
　　· 本章小结第80-83页
第六章 大直径MOCVD感应加热结构及优化第83-91页
　　· 两种不同的反应室模型第83-84页
　　· 优化过程分析第84-87页
　　　　· 线圈匝数对衬底温度分布的影响第85页
　　　　· 线圈中心到基座底面的距离L对衬底温度分布的影响第85-86页
　　　　· 基座高度H对衬底温度分布均匀性的影响第86页
　　　　· 优化前后衬底温度分布的比较第86-87页
　　· 外加电流参数对衬底温度分布的影响第87-89页
　　　　· 电流强度对衬底温度分布的影响第88页
　　　　· 电流频率对衬底温度分布的影响第88-89页
　　· 八英寸和十二英寸衬底加热结构的优化第89-90页
　　· 本章小结第90-91页
第七章 MOCVD反应室内流场的分析与优化第91-105页
　　· 反应室结构和仿真模型第92页
　　· MOCVD反应室流场仿真的数学模型第92-96页
　　　　· 控制方程第92-93页
　　　　· 边界条件第93页
　　　　· 气体的热物性参数第93-96页
　　　　· 基本假设和基准条件第96页
　　· 实验方法第96-97页
　　· 仿真结果分析与讨论第97-101页
　　　　· 涡旋、TMG的分布与压强的关系第98-99页
　　　　· 涡旋、TMG的分布与壁面温度的关系第99-100页
　　　　· 涡旋、TMG的分布与入口大小的关系第100-101页
　　· 反应室流场的三维分析第101-103页
　　· 本章小结第103-105页
第八章 结束语第105-109页
　　· 本文的主要结论第105-106页
　　· 未来的工作第106-109页
致谢第109-111页
参考文献第111-117页
论文期间研究成果第117-119 页

本篇论文共119页，点击这进入下载页面。
 
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