基于材料弹性域去除的超光滑表面加工关键技术研究



基于材料弹性域去除的超光滑表面加工关键技术研究

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基于材料弹性域去除的超光滑表面加工关键技术研究

论文目录
摘要	第12-14页
Abstract	第14-16页
第一章绪论	第16-30页
· 课题来源与研究背景	第16-20页
· 课题来源	第16页
· 研究背景	第16-20页
· 国内外研究现状	第20-27页
· 超光滑表面加工方法综述	第20-26页
· 弹性域去除机理研究现状	第26-27页
· 论文研究的主要内容	第27-30页
第二章光学材料弹性域去除机理研究	第30-63页
· 表层原子键能弱化机制	第30-41页
· 光学元件表面羟基化过程	第30-34页
· 纳米抛光液物理化学特性	第34-36页
· 光学元件表层原子键能弱化反应	第36-41页
· 光学材料加工弹性接触模型	第41-44页
· 光学材料弹性接触实验分析	第41-43页
· 光学材料弹性接触临界条件	第43-44页
· 弹性域去除机制的实验验证	第44-55页
· 纳米抛光颗粒运动轨迹	第45-47页
· 纳米抛光颗粒与光学元件表面的碰撞模型	第47-50页
· 纳米抛光颗粒弹性域射流加工效果	第50-52页
· 弹性域去除实现的证据	第52-55页
· 不同纳米抛光颗粒的材料去除特性	第55-61页
· 纳米氧化铈抛光颗粒	第55-59页
· 纳米氧化硅抛光颗粒	第59-61页
· 本章小结	第61-63页
第三章弹性域流体动压超光滑加工装置设计	第63-81页
· 弹性域流体动压超光滑加工系统的提出	第63-66页
· 现有加工方式对弹性域超光滑加工的局限性	第63-64页
· 弹性域流体动压超光滑加工原理	第64-66页
· 弹性域流体动压超光滑加工模型的建立	第66-70页
· 流体动压超光滑加工理论分析	第66-68页
· 流体动压超光滑加工模型研究	第68-70页
· 加工系统关键机构设计	第70-74页
· 流体动压超光滑加工系统的组成	第70-71页
· 多轴运动平台	第71-72页
· 流体动压超光滑加工的抛光头优化设计	第72-74页
· 加工装置的性能测试	第74-79页
· 抛光轮旋转精度测试	第75-76页
· 抛光头温度稳定性测试	第76-77页
· 加工能力测试	第77-79页
· 本章小结	第79-81页
第四章流体动压超光滑加工的加工特性研究	第81-98页
· 材料去除模型	第81-87页
· 材料去除理论分析	第81-83页
· 流体动力学仿真分析	第83-85页
· 实验建模分析	第85-87页
· 表面形貌演变规律	第87-92页
· 传统抛光的表面和亚表面模型	第87-88页
· 表面微观形貌随深度变化规律	第88-90页
· 表面质量随深度变化规律	第90-91页
· 表面结构特性对超光滑加工性能的影响	第91-92页
· 表面性能评价	第92-96页
· HF刻蚀表面/亚表面质量分析	第92-94页
· 纳米压痕表面物理性能分析	第94-96页
· 本章总结	第96-98页
第五章流体动压超光滑加工工艺规律研究	第98-113页
· 工艺参数影响规律	第98-103页
· 抛光轮浸没深度对材料去除速率的影响	第98-100页
· 抛光轮转速对材料去除速率的影响	第100-101页
· 抛光间隙对材料去除速率的影响	第101-102页
· 工艺参数综合影响分析	第102-103页
· 微细抛光纹路的控制	第103-111页
· 微细抛光纹路产生机理	第104-106页
· 微细抛光纹路抑制策略	第106-111页
· 本章小结	第111-113页
第六章流体动压超光滑表面加工实验	第113-129页
· 不同材料可加工性的实验探索	第113-118页
· 单晶硅	第113-114页
· 单晶石英	第114-115页
· 非晶硅酸盐玻璃	第115-116页
· 微晶玻璃	第116-118页
· 不同前期工艺表面质量提升实验	第118-120页
· 离子束加工表面质量提升实验	第118-119页
· 磁流变加工表面质量提升实验	第119-120页
· 圆形平面镜全频域控制实验	第120-125页
· 低频面形控制	第121-123页
· 中频粗糙度控制	第123-124页
· 高频粗糙度控制	第124-125页
· 石英玻璃激光诱导损伤阈值提升初步实验	第125-128页
· 阈值测试系统	第125-126页
· 阈值结果与分析	第126-128页
· 本章小结	第128-129页
第七章总结与展望	第129-133页
· 全文总结	第129-131页
· 研究展望	第131-133页
致谢	第133-135页
参考文献	第135-144页
作者在学期间取得的学术成果	第144-146页

本篇论文共146页，点击这进入下载页面。

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