基于阵列刻蚀的微通道板制备技术研究



基于阵列刻蚀的微通道板制备技术研究

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基于阵列刻蚀的微通道板制备技术研究

论文目录
摘要	第1-5页
Abstract	第5-9页
1 绪论	第9-16页
· 引言	第9-11页
· 夜视技术	第9-10页
· MEMS工艺技术	第10-11页
· 像增强器中的微通道板	第11-14页
· 微通道板简介	第11页
· 微通道板的结构和倍增原理	第11-13页
· 传统微通道板电子倍增器技术	第13页
· 硅微通道板电子倍增器技术	第13-14页
· 微通道板国内外研究现状	第14-15页
· 国外发展状况	第14页
· 国内发展状况	第14-15页
· 本文研究的主要内容	第15-16页
2 微通道阵列的微加工原理	第16-28页
· 基体材料的选取	第16-17页
· 光刻工艺	第17-20页
· 光刻工艺基本原理	第17-18页
· 光刻的工艺流程	第18-20页
· 剥离工艺原理	第20-21页
· 湿法腐蚀原理	第21-23页
· 湿法腐蚀概述	第21-22页
· 湿法腐蚀的原理	第22-23页
· 反应离子刻蚀原理	第23-27页
· 等离子体产生的物理机理	第23-24页
· 反应离子刻蚀的机理	第24-26页
· 反应离子深刻蚀	第26-27页
· 本章小结	第27-28页
3 光刻工艺研究	第28-35页
· 光刻掩模版的绘制	第28-29页
· 光刻工艺实验	第29-30页
· 硅基片的预处理	第29页
· 光刻工艺实验流程	第29-30页
· 光刻工艺参数对光刻质量的影响	第30-34页
· 显影时间对光刻质量的影响	第30-31页
· 反转烘温度对光刻质量的影响	第31-33页
· 曝光时间对光刻质量的影响	第33-34页
· 本章小结	第34-35页
4 掩蔽层图形化研究	第35-44页
· 磁控溅射铝膜	第35-36页
· 湿法腐蚀工艺	第36-41页
· 湿法腐蚀铝膜的基本原理	第36页
· 湿法腐蚀结果影响因素分析	第36-41页
· 剥离工艺	第41-42页
· 本章小结	第42-44页
5 反应离子刻蚀微孔阵列的研究	第44-54页
· 刻蚀气体的选择	第44-45页
· 刻蚀工艺的选择	第45页
· 低温反应离子刻蚀	第45-53页
· 硅槽结构的刻蚀	第46-50页
· 硅微通道阵列的刻蚀	第50-53页
· 本章小结	第53-54页
6 结论与展望	第54-56页
· 结论	第54-55页
· 展望	第55-56页
参考文献	第56-59页
攻读硕士学位期间发表的论文	第59-60页
致谢	第60-62页

本篇论文共62页，点击这进入下载页面。

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