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He（或Ar）+CH4介质阻挡放电制备类金刚石膜的性能和沉积机理研究
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He（或Ar）+CH4介质阻挡放电制备类金刚石膜的性能和沉积机理研究
论文目录
 
摘要第1-4 页
Abstract第4-6 页
第一章 文献综述第6-19 页
　　· 介质阻挡放电的放电原理和一般性质第6 页
　　· 介质阻挡放电的物理过程和实验研究第6-9 页
　　· 介质阻挡放电的应用第9-12 页
　　· 类金刚石膜结构、性能、应用及其制备方法第12-18 页
　　· 本文选题背景和依据第18-19 页
第二章 介质阻挡放电制备类金刚石膜的过程和膜的性能表征第19-23 页
　　· 实验装置及实验过程介绍第19-21 页
　　· 薄膜表征和分析手段第21-23 页
第三章 Ar+CH_4介质阻挡放电制备DLC膜第23-29 页
　　· 掺Ar对类金刚石膜硬度的影响第23-24 页
　　· 掺Ar类金刚石膜结构的FTIR分析第24-27 页
　　· 掺Ar对类金刚石膜表面形貌的影响第27-28 页
　　· 掺Ar对类金刚石膜沉积速率的影响第28 页
　　小结第28-29 页
第四章 He+CH_4介质阻挡放电制各DLC膜第29-40 页
　　· 掺He对类金刚石膜硬度的影响第29-30 页
　　· 掺He类金刚石膜的FTIR分析第30-33 页
　　· Raman光谱测试结果及分析第33-35 页
　　· 掺He对类金刚石膜表面形貌的影响第35-36 页
　　· 掺He对介质阻挡放电制备DLC膜沉积速率的影响第36-37 页
　　· 掺He和Ar对介质阻挡放电制备DLC膜的性质影响的比较第37-39 页
　　小结第39-40 页
第五章 等离子体化学气相沉积制备类金刚石膜机理的探讨第40-44 页
　　一、 等离子体化学气相沉积类金刚石膜的机理第40-41 页
　　二、 等离子体中的化学反应和化学成分第41 页
　　三、 等离子体与表面的反应第41-44 页
第六章 展望第44-45 页
参考文献第45-48 页
在读期间发表的与学位论文相关的论文第48 页
本论文创新点第48-49 页
致谢第49-51 页

本篇论文共51页，点击这进入下载页面。
 
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