多晶硅厚膜制备及磷、硼快速扩散



多晶硅厚膜制备及磷、硼快速扩散

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多晶硅厚膜制备及磷、硼快速扩散

论文目录
摘要	第1-7页
Abstract	第7-12页
第1章绪论	第12-20页
1.1 太阳能概况	第12-13页
1.1.1 太阳能资源	第12-13页
1.1.2 太阳能利用方式	第13页
1.2 太阳电池种类	第13-15页
1.2.1 单质太阳电池	第14页
1.2.2 化合物太阳电池	第14页
1.2.3 有机聚合物太阳电池	第14-15页
1.3 多晶硅厚膜太阳电池	第15-16页
1.3.1 制作的必要性	第15页
1.3.2 制备方法	第15-16页
1.4 晶硅掺杂技术	第16-18页
1.4.1 掺杂的目的	第16页
1.4.2 掺杂方法	第16-18页
1.5 本文主要内容	第18-20页
第2章制备系统、表征技术与原理	第20-30页
2.1 制备系统	第20-23页
2.1.1 多晶硅厚膜的制备系统	第20-22页
2.1.2 快速扩散的制备系统	第22-23页
2.2 表征技术	第23-25页
2.2.1 多晶硅薄膜的表征技术	第23-24页
2.2.2 快速扩散的表征技术	第24-25页
2.3 扩散原理	第25-28页
2.3.1 扩散方程	第25-26页
2.3.2 磷、硼扩散原理	第26-27页
2.3.3 固态源扩散	第27-28页
2.4 I-V曲线测试	第28-29页
2.5 本章总结	第29-30页
第3章石墨衬底多晶硅厚膜制备与表征	第30-41页
3.1 石墨衬底的选择	第30页
3.2 多晶硅厚膜的制备	第30-32页
3.2.1 石墨衬底上籽晶层的制备	第30-31页
3.2.2 石墨衬底多晶硅厚膜的制备	第31-32页
3.3 多晶硅厚膜的表征	第32-34页
3.3.1 多晶硅厚膜SEM分析	第32-33页
3.3.2 多晶硅厚膜XRD分析	第33-34页
3.4 ZnO对多晶硅厚膜的影响	第34-35页
3.4.1 ZnO的性质与作用	第34-35页
3.4.2 ZnO过渡层的制备	第35页
3.5 ZnO对多晶硅厚膜的影响的表征	第35-37页
3.5.1 SEM测试表征	第35-36页
3.5.2 XRD测试表征	第36-37页
3.6 择优晶向成因分析	第37-40页
3.6.1 石墨衬底籽晶层Si(220)择优取向成因分析	第37-39页
3.6.2 引入ZnO过渡层后籽晶层(400)择优取向成因分析	第39-40页
3.7 本章总结	第40-41页
第4章单晶硅磷、硼快速扩散的制备与表征	第41-52页
4.1 单晶硅磷、硼快速扩散的制备	第41-42页
4.1.1 单晶硅片的选择与预处理	第41页
4.1.2 单晶硅磷、硼快速扩散的制备	第41-42页
4.2 磨角与染色	第42-43页
4.3 结果与分析	第43-50页
4.4 I-V曲线测试	第50-51页
4.5 本章总结	第51-52页
第5章结论与展望	第52-54页
5.1 单晶硅快速磷、硼扩散制备的结论	第52-53页
5.2 展望	第53-54页
参考文献	第54-60页
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果	第60-61页
致谢	第61页

本篇论文共61页，点击这进入下载页面。

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