对光刻工艺中在光阻底部增加抗反射涂层（BARC）的研究



对光刻工艺中在光阻底部增加抗反射涂层（BARC）的研究

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对光刻工艺中在光阻底部增加抗反射涂层（BARC）的研究

论文目录
摘要	第1-4 页
ABSTRACT	第4-7 页
第一章绪论	第7-21 页
· 引言	第7-9 页
· 光刻工艺	第9-19 页
· 光刻工艺概况	第11-19 页
· 涂胶系统	第12-14 页
· 曝光系统	第14-16 页
· 显影系统	第16-17 页
· 检测系统	第17-19 页
· 光刻面临的困难和挑战	第19-21 页
第二章抗反射层在光刻工艺中的介入	第21-29 页
· 底部抗反射涂层(BARC)概念的引入	第21 页
· 对BARC原理的深入研究	第21-26 页
· 基本原理	第21-22 页
· 影响反射率的因素	第22-24 页
· 基板材料和厚度的影响	第22-23 页
· 摆动曲线与Brunner公式	第23-24 页
· BARC折射系数(N)的影响	第24 页
· BARC消光系数(K)的影响	第24 页
· BARC的分类	第24-26 页
· 平坦型和随形型BARC的比较	第26 页
· 最优BARC和光刻胶厚度的选择	第26-29 页
第三章对BARC工艺的深入分析	第29-31 页
· BARC工艺的分类	第29-30 页
· 两种BARC工艺的差别	第30-31 页
第四章分析BARC对光刻工艺的提升	第31-46 页
· BARC厚度调节	第31-35 页
· 编写工艺程式	第35-36 页
· 验证工艺成果	第36-46 页
· 消除驻波和反射切开	第36-38 页
· 工艺窗口增大的验证	第38-43 页
· 最佳工艺条件的确定	第43-46 页
第五章结合生产探索对BARC工艺进行优化	第46-50 页
· BARC工艺中遇到的问题	第46 页
· BARC工艺的突破	第46-49 页
· 曝光能量改变的影响	第46-47 页
· 曝光焦距改变的影响	第47 页
· BARC厚度改变的影响	第47-48 页
· 热烘烤温度和时间改变的影响	第48-49 页
· 小结	第49-50 页
第六章结论	第50-51 页
参考文献	第51-55 页
发表论文和参加科研情况说明	第55-56 页
致谢	第56 页

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