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有源光子晶体波导增益特性及其电注入结构

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有源光子晶体波导增益特性及其电注入结构
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第1章 绪论第10-24页
  · 引言第10-11页
  · 有源光子晶体概述第11-18页
    · 有源光子晶体波导的基本概念第11-14页
    · 有源光子晶体波导的研究进展第14-16页
    · 有源光子晶体波导在光子集成器件上的应用第16-18页
  · 有源光子晶体波导研究与技术发展的若干关键问题分析第18-21页
    · 光子晶体波导的光增益特性及其理论计算问题第18-19页
    · 电泵有源光子晶体波导的结构设计与调控机制的开发第19-20页
    · 有源光子晶体波导的横向载流子限制问题第20页
    · InP 材料“大深宽比”光子晶体小孔的ICP 刻蚀工艺的实现第20-21页
  · 论文工作的主要内容和创新点第21-24页
第2章 光子晶体波导的模式特性第24-48页
  · 引言第24页
  · 光子晶体波导的基本概念第24-27页
    · 光子晶体波导的导光原理第24-26页
    · 光子晶体波导中光波的状态密度第26页
    · 光子晶体波导中模式的群速度-慢光效应第26-27页
  · 光子晶体波导模式特性的仿真第27-42页
    · 光子晶体波导模式特性的仿真方法第27-31页
    · W1 有源光子晶体波导的模式特性和慢光效应第31-37页
    · W3 有源光子晶体波导的模式特性和MSB 效应第37-42页
  · SOI 基光子晶体波导的制备及模式特性测试第42-47页
    · SOI 基光子晶体的制备和测试平台第42-44页
    · W1 波导模式特性的测试第44-46页
    · 不同结构参数下的MSB 效应的测试第46-47页
  · 本章小结第47-48页
第3章 有源光子晶体波导的光增益特性第48-60页
  · 引言第48页
  · 有源光子晶体波导光增益研究的关键问题分析第48-50页
  · 光子晶体波导异常色散对半导体材料光增益特性的影响第50-54页
    · 光波状态密度对增益的影响第50-51页
    · 群速度对增益的影响第51-52页
    · 有源光子晶体波导光增益计算方法的修正第52-54页
  · 有源光子晶体波导的光增益计算第54-58页
    · 慢光增强效应下量子阱光增益的模型建立第54-56页
    · W1 波导和W3 波导的光增益的计算第56-58页
  · 光子晶体波导宽度对光增益特性的影响第58-59页
  · 本章小结第59-60页
第4章 微腔-有源光子晶体波导的增益特性第60-72页
  · 引言第60页
  · 微腔-有源光子晶体波导的工作原理第60-64页
  · 微腔-波导复合结构的选模特性第64-70页
    · 微腔形状对选模特性的影响第65-66页
    · 微腔侧壁对选模特性的影响第66-69页
    · 微腔周期对有源光子晶体波导的调控第69-70页
  · 微腔-波导复合结构的增益特性第70-71页
  · 本章小结第71-72页
第5章 双槽-光子晶体波导第72-86页
  · 引言第72页
  · 双槽-光子晶体波导的电注入特性第72-77页
    · 载流子横向扩散的限制作用第72-74页
    · 电注入效率第74-77页
  · 双槽-光子晶体波导的模式特性第77-80页
  · 双槽-光子晶体波导模式特性的实验验证第80-83页
    · 结构设计及样品制备第81页
    · 双槽-光子晶体波导特性测试第81-83页
  · 双槽-光子晶体波导的折射率传感应用第83-85页
  · 本章小结第85-86页
第6章 有源光子晶体波导的ICP 干法刻蚀工艺第86-104页
  · 引言第86页
  · 有源光子晶体波导的ICP 干法刻蚀工艺第86-97页
    · 有源光子晶体波导ICP 干法刻蚀工艺的难点第87-89页
    · ICP 干法刻蚀参数对刻蚀垂直度和光滑度的影响及参数优化第89-96页
    · InP 基有源光子晶体波导的大深宽比刻蚀第96-97页
  · 有源光子晶体波导的制备第97-103页
    · 有源光子晶体波导的制备工艺流程第97-98页
    · InP/InGaAsP 量子阱外延片设计第98-99页
    · SiO_2 硬掩膜的制备第99-102页
    · InP 基有源光子晶体波导的电极工艺第102-103页
  · 本章小结第103-104页
结束语第104-106页
参考文献第106-113页
致谢第113-114页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第114-115页

本篇论文共115页,点击这进入下载页面
 
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