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微盘光谐振腔的制作研究
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微盘光谐振腔的制作研究
论文目录
 
摘要第1-7 页
Abstract第7-11 页
第一章 绪论第11-35 页
　　· 微谐振腔简介第11 页
　　· 微谐振腔中光约束的机理以及谐振腔的基本特性第11-15 页
　　　　· 光约束机理第11-12 页
　　　　· 光谐振腔类型及特性第12-15 页
　　· 微谐振腔元件及应用第15-21 页
　　　　· 与其他元件集成第15-16 页
　　　　· WDM系统中的波长选择元件第16-18 页
　　　　· 生物化学传感器第18 页
　　　　· 自发发射控制、新型光源以及腔量子电动力学第18-21 页
　　· 谐振腔的材料第21-22 页
　　· 微谐振腔的模拟计算第22-23 页
　　· 微谐振腔在量子计算领域的应用以及进展第23-25 页
　　· 小结第25-26 页
　　参考文献第26-35 页
第二章 微盘谐振腔的研制第35-89 页
　　· 微盘谐振腔的制作概述第35-40 页
　　　　· 微谐振腔制造工艺第35-38 页
　　　　· 微细加工法制作微盘谐振腔第38-39 页
　　　　· 微细加工法制作微盘谐振腔关键第39-40 页
　　· 实验设备以及材料第40-43 页
　　　　· SiO_2/Si基片第40 页
　　　　· 光刻胶第40-41 页
　　　　· 离子束刻蚀机第41 页
　　　　· XeF_2刻蚀系统第41-42 页
　　　　· 检测设备第42-43 页
　　· 微盘谐振腔制作工艺过程第43-44 页
　　· 光刻过程中的关键技术第44-50 页
　　　　· 光刻胶膜层制备以及处理工艺第45-48 页
　　　　· 曝光、显影工艺第48-50 页
　　· 微盘谐振腔腔体制作的研究第50-65 页
　　　　· 腔体制作概述第50-52 页
　　　　· 离子束刻蚀工艺简介第52-56 页
　　　　　　· 离子束刻蚀技术第52-53 页
　　　　　　· 离子束刻蚀机主要部件第53-54 页
　　　　　　· 离子束刻蚀中物理现象第54-56 页
　　　　· SiO_2的反应离子束刻蚀第56-65 页
　　　　　　· SiO_2的反应离子束刻蚀特性第58-59 页
　　　　　　· CHF_3/Ar对SiO_2的反应离子束刻蚀第59-61 页
　　　　　　· 反应离子束刻蚀制作SiO_2微腔实验第61-63 页
　　　　　　· 反应离子束刻蚀SiO_2微腔中一些现象第63-65 页
　　　　· 小结第65 页
　　· 微盘谐振腔中的硅刻蚀第65-78 页
　　　　· 概述第65-66 页
　　　　· Si的XeF_2刻蚀第66-75 页
　　　　　　· Si的XeF_2刻蚀简介第66-67 页
　　　　　　· XeF_2对硅的刻蚀机理第67 页
　　　　　　· Si的XeF_2刻蚀方法第67-68 页
　　　　　　· XeF_2刻蚀Si的实验第68-70 页
　　　　　　· XeF_2刻蚀硅的结果及讨论第70-75 页
　　　　· XeF_2刻蚀硅在制作微盘腔中的应用第75-78 页
　　　　· 小结第78 页
　　· 微盘谐振腔制作实验结果第78-80 页
　　· 本章小结第80-81 页
　　参考文献第81-89 页
第三章 微盘谐振腔性能测试第89-95 页
　　参考文献第94-95 页
第四章 总结与展望第95-97 页
致谢第97-98 页
作者发表论文第98页

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