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近红外InGaAs光电阴极材料特性仿真与表面敏化研究

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近红外InGaAs光电阴极材料特性仿真与表面敏化研究
论文目录
 
摘要第1-7页
Abstract第7-12页
1 绪论第12-28页
  1.1 负电子亲和势光电阴极发展概述第12-14页
  1.2 NEA In_xGa_(1-x)As光电阴极研究现状第14-18页
  1.3 In_xGa_(1-x)As材料基本性质第18-24页
    1.3.1 In_xGa_(1-x)As材料生长第18-19页
    1.3.2 In_xGa_(1-x)As材料结构与能带结构第19-21页
    1.3.3 In_xGa_(1-x)As材料缺陷与掺杂第21-23页
    1.3.4 In_xGa_(1-x)As材料的表面结构第23-24页
  1.4 本文研究背景和意义第24-26页
  1.5 本文主要研究内容第26-28页
2 研究方法与理论基础第28-37页
  2.1 第一性原理的计算方法第28-29页
    2.1.1 第一性原理的计算方法概述第28-29页
    2.1.2 CASTEP软件及其主要模拟方法第29页
  2.2 固体能带理论和薛定谔方程的近似第29-31页
  2.3 密度泛函理论第31-34页
    2.3.1 基本思想第31-32页
    2.3.2 Hohenberg-Kohn定理第32页
    2.3.3 Kohn-Sham(沈吕九)方程第32-33页
    2.3.4 局域密度近似(LDA)和广义梯度近似(GGA)第33-34页
  2.4 赝势平面波方法第34-35页
  2.5 小结第35-37页
3 NEA In_xGa_(1-x)As光电阴极结构设计第37-49页
  3.1 GaAs衬底特性分析第37-45页
    3.1.1 掺杂对GaAs衬底的影响第37-40页
    3.1.2 点缺陷对GaAs衬底的影响第40-45页
  3.2 In_xGa_(1-x)As光电阴极组分的选择与分析第45-48页
    3.2.1 能带结构第45-46页
    3.2.2 光学性质第46-48页
  3.3 小结第48-49页
4 In_xGa_(1-x)As发射层体材料特性分析第49-67页
  4.1 本征In_(0.53)Ga_(0.47)As体材料特性分析第49-54页
    4.1.1 能带结构和态密度第50-53页
    4.1.2 光学性质第53-54页
  4.2 掺杂的形成第54-59页
    4.2.1 掺杂元素的选择第54-56页
    4.2.2 替位式Zn掺杂的稳定性分析第56页
    4.2.3 替位式Zn掺杂的能带与电子结构第56-59页
  4.3 空位缺陷的存在对体掺杂的发射层的影响第59-65页
    4.3.1 形成能与成键结构分析第59-60页
    4.3.2 能级分析以及缺陷对材料极性的影响第60-63页
    4.3.3 空位缺陷对掺杂元素电荷分布的影响第63-64页
    4.3.4 空位缺陷对p型InGaAs光学性质的影响第64-65页
  4.4 小结第65-67页
5 InGaAs发射层的表面与敏化第67-96页
  5.1 In_(0.53)Ga_(0.47)As表面重构的探讨第67-76页
    5.1.1 表面重构的类型第67-68页
    5.1.2 表面稳定性分析第68-71页
    5.1.3 重构表面能带结构和功函数第71-72页
    5.1.4 表面电子结构第72-74页
    5.1.5 不同表面的光子吸收情况第74-75页
    5.1.6 最终吸附表面的确定——富As β_2(2×4)表面第75-76页
  5.2 表面Zn的掺杂位的选取第76-83页
    5.2.1 表面掺杂模型的建立第76-77页
    5.2.2 Zn掺杂表面的弛豫与形成能第77-78页
    5.2.3 能带结构和电子结构第78-80页
    5.2.4 Zn掺杂对表面功函数的影响第80-82页
    5.2.5 Zn掺杂对表面光学性质的影响第82-83页
  5.3 InGaAs表面负电子亲和势的生成第83-95页
    5.3.1 低覆盖度Cs吸附位置的选择第83-89页
    5.3.2 Cs覆盖度对InGaAs光电发射的影响第89-92页
    5.3.3 In_(0.53)Ga_(0.47)As(Zn)表面的Cs-O吸附第92-95页
  5.4 小结第95-96页
6 结束语第96-99页
  6.1 本文工作总结第96-97页
  6.2 本文创新点第97-98页
  6.3 有待进一步解决的问题第98-99页
致谢第99-100页
参考文献第100-112页
附录第112页

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