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PZT薄膜及ZnO纳米线阵列的制备及其阻变存储性能

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PZT薄膜及ZnO纳米线阵列的制备及其阻变存储性能
论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-13页
第1章 绪论第13-36页
  1.1 导言第13页
  1.2 新型存储技术简介第13-27页
    1.2.1 相变存储器第13-14页
    1.2.2 磁阻式存储器第14-15页
    1.2.3 铁电存储器第15-19页
    1.2.4 阻变存储器第19-27页
  1.3 薄膜的主要沉积方式第27-30页
    1.3.1 磁控溅射法第27-28页
    1.3.2 金属有机化学气相沉积第28页
    1.3.3 脉冲激光沉积法第28-29页
    1.3.4 溶胶凝胶法第29-30页
  1.4 氧化锌纳米线的沉积方式及阻变研究第30-33页
    1.4.1 水热法第30-31页
    1.4.2 化学气相沉积第31-33页
    1.4.3 氧化锌基阻变特性研究第33页
  1.5 目前相关研究的不足之处第33-34页
  1.6 本文主要研究内容第34-36页
第2章 材料与实验方法第36-49页
  2.1 制备PZT薄膜所需材料及制备参数第36-37页
  2.2 制备ZnO样品所需材料第37-38页
  2.3 研究分析方法第38-49页
    2.3.1 样品晶体结构与形貌测试方法第38-41页
    2.3.2 铁电性能测试系统第41-42页
    2.3.3 电学测试系统第42-43页
    2.3.4 导电机理模型第43-48页
    2.3.5 实验装备汇总第48-49页
第3章 PZT薄膜的基本特性及其阻变性能第49-68页
  3.1 导言第49页
  3.2 PZT薄膜的微结构第49-52页
    3.2.1 PZT的晶体结构和厚度第49-50页
    3.2.2 表面粗糙度和铁电畴分析第50-52页
  3.3 样品电学性能测试第52-58页
    3.3.1 顶电极的沉积第52-53页
    3.3.2 铁电性能第53-55页
    3.3.3 介电性能及伏安曲线的测量第55-58页
  3.4 预极化处理后的J-V特性第58-60页
  3.5 PZT基铁电电容器的瞬时电流第60-64页
  3.6 可翻转二极管的物理机理第64-66页
  3.7 本章小结第66-68页
第4章 剩余极化及温度对PZT基阻变特性的影响第68-85页
  4.1 导言第68页
  4.2 剩余极化强度对PZT基阻变特性的影响第68-72页
  4.3 温度对PZT基阻变特性的影响第72-74页
    4.3.1 P-V曲线的温度依赖性研究第72-73页
    4.3.2 温度对PZT基阻变特性的调控第73-74页
  4.4 PZT基阻变存储器中导电机理分析第74-84页
    4.4.1 室温剩余极化作用后导电分析第74-77页
    4.4.2 不同温度下的导电机理第77-84页
  4.5 本章小结第84-85页
第5章 ZnO纳米线的沉积及其电阻回滞第85-103页
  5.1 引言第85页
  5.2 氧化锌纳米线阵列的制备工艺第85-91页
    5.2.1 溶胶凝胶法制备氧化锌薄膜种子层第86-88页
    5.2.2 水热法制备氧化锌单晶纳米棒催化层第88-89页
    5.2.3 化学气相沉积法制备氧化锌纳米线第89-91页
  5.3 纳米线基本物性分析第91-98页
    5.3.1 X射线衍射分析第91-92页
    5.3.2 扫描电子显微镜分析第92-95页
    5.3.3 氧空位含量的定性测量第95-98页
  5.4 Si/ZnO/Ag结构电阻回滞性能测试第98-102页
  5.5 本章小结第102-103页
结论第103-105页
参考文献第105-119页
攻读学位期间发表的学术论文第119-121页
致谢第121-122页
个人简历第122页

本篇论文共122页,点击这进入下载页面
 
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