论文目录 | |
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-39页 |
| 1.1 可控核聚变 | 第12-15页 |
| 1.2 等离子体与第一壁相互作用 | 第15-20页 |
| 1.2.1 第一壁材料的选择 | 第16-18页 |
| 1.2.2 氢在壁材料中的滞留 | 第18-19页 |
| 1.2.3 氢及共沉积层的清除 | 第19-20页 |
| 1.3 壁滞留研究概述 | 第20-29页 |
| 1.3.1 线性等离子体装置PWI研究 | 第22-25页 |
| 1.3.2 螺旋波等离子体PWI研究 | 第25-28页 |
| 1.3.3 苏州大学强磁场螺旋波实验装置 | 第28-29页 |
| 1.4 论文的主要内容和结构 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-39页 |
| 第二章 理论部分 | 第39-68页 |
| 2.1 螺旋波等离子体基本理论 | 第39-45页 |
| 2.1.1 螺旋波等离子体色散关系及波结构 | 第40-43页 |
| 2.1.2 高效螺旋波等离子体的发生机理 | 第43-45页 |
| 2.2 氢在钨材料中的滞留 | 第45-53页 |
| 2.2.1 氢的迁移 | 第49-52页 |
| 2.2.2 捕获和表面效应 | 第52-53页 |
| 2.3 等离子体辐照对滞留的影响 | 第53-55页 |
| 2.4 实验主要诊断及分析方法原理 | 第55-63页 |
| 2.4.1 热脱附分析(TDS) | 第55-58页 |
| 2.4.2 静电探针 | 第58-60页 |
| 2.4.3 发射光谱(OES) | 第60-62页 |
| 2.4.4 EQP分析仪 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 第三章 螺旋波等离子体装置及基本参数诊断 | 第68-82页 |
| 3.1 HMHX装置及等离子体参数诊断 | 第68-75页 |
| 3.2 PMHIX装置及主要等离子体参数诊断 | 第75-80页 |
| 3.3 本章小结 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-82页 |
| 第四章 Ar/N_2混合螺旋波等离子体放电及壁处理研究 | 第82-100页 |
| 4.1 实验装置及方法 | 第82-84页 |
| 4.2 实验结果及讨论 | 第84-97页 |
| 4.2.1 N_2/(N_2+Ar)比对离化率的影响 | 第84-88页 |
| 4.2.2 N_2/(N_2+Ar)比对离子能量分布的影响 | 第88-91页 |
| 4.2.3 N_2/(N_2+Ar)比对分子及离子转动温度的影响 | 第91-92页 |
| 4.2.4 氮氩混合螺旋波等离子体放电壁清洗效果模拟研究 | 第92-97页 |
| 4.3 本章小结 | 第97-98页 |
| 参考文献 | 第98-100页 |
| 第五章 螺旋波等离子体参数对钨材料中D滞留的影响 | 第100-117页 |
| 5.1 D_2/He混合螺旋波等离子体放电及滞留研究 | 第100-108页 |
| 5.2 磁场对D螺旋波等离子体参数及滞留的影响 | 第108-112页 |
| 5.3 基板偏压对D螺旋波等离子体参数及滞留的影响 | 第112-114页 |
| 5.4 本章小结 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-117页 |
| 第六章 EAST装置螺旋波等离子体壁处理研究 | 第117-140页 |
| 6.1 实验装置及方法 | 第118-120页 |
| 6.2 实验结果及讨论 | 第120-138页 |
| 6.2.1 第一轮实验 | 第120-123页 |
| 6.2.2 第二轮实验 | 第123-131页 |
| 6.2.3 第三轮实验 | 第131-138页 |
| 6.3 本章小结 | 第138-139页 |
| 参考文献 | 第139-140页 |
| 第七章 结论与展望 | 第140-143页 |
| 7.1 结论 | 第140-142页 |
| 7.2 展望 | 第142-143页 |
| 创新性说明 | 第143-144页 |
| 攻读博士学位期间公开发表的论文及科研成果 | 第144-146页 |
| 致谢 | 第146-147页 |
