磁场对于集成电路工艺微电子测试图分析的影响及其解决方法的研究



磁场对于集成电路工艺微电子测试图分析的影响及其解决方法的研究

磁场对于集成电路工艺微电子测试图分析的影响及其解决方法的研究

论文目录
摘要	第1-4 页
Abstract	第4-5 页
引言	第5-7 页
第一章集成电路的发展与可靠性物理中的SEM技术	第7-13 页
第一节集成电路发展趋势	第7-8 页
第二节可靠性物理的介绍	第8-10 页
第三节光刻工艺中的重要技术——SEM技术	第10-11 页
第四节 SEM与APC的关系	第11-13 页
第二章现实可靠性量测中所遇到的问题	第13-20 页
第一节 SEM的原理简介	第13-14 页
第二节 CDSEM的现实使用的问题	第14-15 页
第三节原因的发现与验证	第15-18 页
第四节磁场的简单介绍	第18-20 页
第三章分析磁场对场发射扫描电子显微技术的影响和提出解决方案	第20-29 页
第一节分析磁场对电子显微技术的影响	第20-21 页
第二节解决方案-工艺方面	第21-22 页
第三节解决方案-硬件方面	第22-27 页
第四节主动式反磁场系统的介绍	第27-29 页
第四章实验结果	第29-32 页
第一节磁场的变化	第29-30 页
第二节产品CD量测的结果	第30-32 页
第五章方案的推广和意义	第32-34 页
第六章总结	第34-37 页
参考文献	第37-38 页
致谢	第38-39 页

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磁场可靠性论文
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