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PECVD制备多层氮化硅减反膜的工艺研究

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PECVD制备多层氮化硅减反膜的工艺研究
论文目录
 
摘要第1-6页
abstract第6-11页
第一章 绪论第11-29页
  · 太阳能光伏产业的前景及发展现状第11-15页
  · 太阳电池的分类第15-17页
    · 晶体硅太阳电池第15-16页
    · 薄膜太阳电池第16-17页
    · 光化学太阳电池第17页
  · 硅材料的制备工艺介绍第17-19页
    · 多晶硅锭的制备第17-18页
    · 单晶硅锭的制备第18-19页
  · 晶硅太阳电池的制备工艺介绍第19-24页
    · 硅片检测第20页
    · 清洗制绒第20-21页
    · 扩散制结第21页
    · 等离子刻蚀第21-22页
    · 去磷硅玻璃第22页
    · 沉积钝化减反膜第22-23页
    · 丝网印刷第23-24页
    · 快速烧结第24页
    · 测试分选第24页
  · 氮化硅减反膜在晶硅太阳电池中的应用第24-28页
    · 氮化硅薄膜的发展第24-26页
    · 与其他减反膜的比较第26页
    · 光伏行业中常见的氮化硅减反膜制备方法第26-28页
  · 本文研究的主要内容第28-29页
第二章 理论分析第29-36页
  · 太阳电池原理第29-31页
    · 半导体的特点第29页
    · 本征半导体第29-30页
    · 掺杂半导体第30页
    · PN结的形成与特性第30-31页
  · 晶硅太阳电池原理第31-32页
  · 晶硅太阳电池的减反射与氢钝化第32-34页
    · 晶硅太阳电池的减反射第32-34页
    · 晶硅太阳电池的氢钝化第34页
  · 影响太阳电池光电转化效率的因素第34-36页
第三章 单双层氮化硅钝化减反膜的比对研究第36-43页
  · 主要设备和仪器第36-37页
  · 主要原材料及规格第37页
  · 单层氮化硅减反膜和双层氮化硅减反膜的的制备第37-39页
    · 氮化硅减反膜的制备第38页
    · 氮化硅减反膜的表征第38-39页
  · 结果与讨论第39-42页
    · 双层氮化硅减反膜对多晶硅少子寿命的影响第39-40页
    · 双层氮化硅减反膜对多晶硅反射率的影响第40-41页
    · 双层氮化硅镀膜对多晶硅太阳能电池电性能的影响第41-42页
  · 本章小结第42-43页
第四章 工艺参数对双层氮化硅减反膜性能的影响研究第43-51页
  · 主要设备和仪器第43-44页
  · 主要原材料及规格第44页
  · 双层氮化硅减反膜的制备与表征第44-45页
    · 双层氮化硅减反膜的制备第45页
    · 双层氮化硅减反膜的表征第45页
  · 结果与讨论第45-50页
    · 温度对双层氮化硅减反膜性能的影响第45-46页
    · 射频频率对双层氮化硅减反膜性能的影响第46-47页
    · 射频功率对双层氮化硅性能的影响第47-48页
    · 腔室压力对氮化硅减反膜性能的影响第48-49页
    · 优化前后对太阳电池电性能对比分析第49-50页
  · 本章小结第50-51页
第五章 彩色高效太阳电池的探索性研究第51-57页
  · 彩色高效太阳电池的发展现状与意义第51-52页
  · 彩色高效太阳电池的制备方法第52-54页
    · 磁控溅射第53-54页
    · 电子束蒸发镀膜第54页
  · PECVD与电子束蒸发镀膜结合制备彩色高效太阳电池第54-55页
  · 本章小结第55-57页
第六章 结论与展望第57-59页
参考文献第59-63页
致谢第63-64页
附录A (攻读学位期间发表的论文)第64-65页
附录B第65-66页
附件第66-76页

本篇论文共76页,点击这进入下载页面
 
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