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磁控溅射法制备ZrO_2薄膜的研究

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磁控溅射法制备ZrO_2薄膜的研究
论文目录
 
摘要第1-4页
Abstract第4-9页
1 绪论第9-19页
  · 课题背景及研究意义第9页
  · ZrO_2薄膜概述第9-12页
    · ZrO_2的相结构第9-10页
    · ZrO_2薄膜的性质及应用第10-12页
  · 薄膜制备技术概述第12-18页
    · 薄膜制备的化学方法第12-13页
    · 薄膜制备的物理方法第13-16页
    · ZrO_2薄膜的国内外研究现状第16-18页
  · 本课题的提出及主要研究内容第18-19页
2 ZrO_2薄膜的制备及测试方法第19-27页
  · ZZX-1100型溅射镀膜设备简介第19页
  · 试验过程第19-20页
  · 制备ZrO_2薄膜的迟滞回线研究第20-21页
  · 薄膜的测试方法第21-27页
    · 薄膜结构的XRD测试原理第21-22页
    · 薄膜成分的XPS测试原理第22-23页
    · Talay Hobson非接触式轮廓仪测试原理第23-24页
    · 椭圆偏振光谱仪测试原理第24-25页
    · 分光光度的测试原理第25-27页
3 正交法制备ZrO_2薄膜试验第27-33页
  · 正交试验原理及试验过程第27-28页
  · 反应磁控溅射基本工艺参数的选取第28-30页
    · 工艺因素分析第28-29页
    · 工艺参数的选取第29-30页
  · 正交试验方案第30-31页
    · 因素水平地选取第30页
    · 试验计划第30-31页
  · 试验结果及分析第31-32页
  · 本章小结第32-33页
4 ZrO_2薄膜表面粗糙度、结构和组分的测试及分析第33-38页
  · 不同氧流量对薄膜表面粗糙度的影响分析第33-34页
    · 制备工艺参数第33页
    · 表面粗糙度的测试分析结果第33-34页
  · 不同氧流量对薄膜表面结构的影响分析第34-35页
    · 制备工艺参数第34页
    · XRD测试结果分析第34-35页
  · 薄膜XPS分析第35-37页
    · 制备工艺参数第35页
    · XPS测试方法第35页
    · XPS测试结果分析第35-37页
  · 本章小结第37-38页
5 溅射工艺参数对ZrO_2薄膜性能的影响分析第38-46页
  · 反应气体流量对薄膜性能的影响第38-41页
    · 不同氧流量下薄膜的溅射工艺参数第38页
    · 不同氧流量对薄膜沉积速率的影响分析第38-39页
    · 不同氧流量对薄膜光学常数的影响分析第39-40页
    · 不同氧流量对薄膜透过率的影响分析第40-41页
  · 不同靶基距对薄膜性能的影响分析第41-43页
    · 不同靶基距下薄膜的制备工艺参数第41页
    · 不同靶基距对薄膜沉积速率的影响分析第41-42页
    · 不同靶基距对薄膜光学常数的影响分析第42-43页
  · 不同靶功率对薄膜性能的影响分析第43-44页
    · 不同靶功率下制备薄膜的工艺参数第43页
    · 不同靶功率对薄膜沉积速率的影响分析第43-44页
    · 不同靶功率对薄膜光学常数的影响分析第44页
  · 本章小结第44-46页
6 ZrO_2薄膜抗激光损伤特性的研究第46-51页
  · 激光对物质的作用机理第46页
  · 薄膜抗激光损伤闽值的测试第46-48页
    · 测试方法第46-47页
    · 测试装置第47-48页
    · 损伤的判定第48页
  · ZrO_2薄膜的抗激光损伤特性分析第48-49页
  · 本章小结第49-51页
7 结论第51-53页
  · 结论第51页
  · 对今后工作的建议第51-53页
参考文献第53-59页
攻读硕士学位期间发表的论文第59-60页
致谢第60-62页

本篇论文共62页,点击这进入下载页面
 
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