PZT薄膜的改性研究及其在微执行器中的应用
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PZT薄膜的改性研究及其在微执行器中的应用
论文目录
摘要
第1-5页
Abstract
第5-9页
1 绪论
第9-22页
1.1 PZT薄膜的发展过程及其应用
第9-12页
1.1.1 PZT薄膜的发展过程
第9页
1.1.2 PZT薄膜的应用
第9-12页
1.2 PZT材料的结构与性质
第12-16页
1.3 PZT薄膜的研究进展
第16-20页
1.3.1 PZT薄膜的制备方法
第16-18页
1.3.2 PZT薄膜的研究进展
第18-20页
1.4 论文的研究意义和研究内容
第20-22页
2 PZT薄膜的制备与表征方法
第22-32页
2.1 PZT薄膜的制备过程
第22-25页
2.1.1 PZT前驱体溶液的配制
第22-24页
2.1.2 PZT溶液的旋涂方法
第24页
2.1.3 PZT薄膜的热处理过程
第24-25页
2.2 PZT薄膜的结晶过程和择优取向生长机理
第25-26页
2.2.1 PZT薄膜的结晶过程
第25页
2.2.2 PZT择优取向生长机理
第25-26页
2.3 PZT薄膜的表征方法
第26-30页
2.3.1 PZT薄膜厚度的表征方法
第26-27页
2.3.2 PZT薄膜晶向的表征方法
第27-28页
2.3.3 PZT薄膜微观形貌的表征方法
第28页
2.3.4 PZT薄膜介电性能的表征方法
第28-29页
2.3.5 PZT薄膜铁电和抗疲劳性能的表征方法
第29-30页
2.3.6 PZT薄膜振动性能的表征方法
第30页
2.4 本章小结
第30-32页
3 缓冲层工艺对PZT薄膜生长的影响
第32-44页
3.1 PbTiO3缓冲层对PZT薄膜生长的影响
第32-36页
3.1.1 PbTiO3缓冲层的制备
第32-33页
3.1.2 PbTiO3缓冲层对PZT薄膜晶向和微观结构的影响
第33-34页
3.1.3 PbTiO3缓冲层对PZT薄膜介电和铁电性能的影响
第34-36页
3.2 PZT缓冲层对PZT薄膜生长的影响
第36-43页
3.2.1 PZT缓冲层的制备
第36页
3.2.2 PZT缓冲层对PZT薄膜晶向的影响
第36-38页
3.2.3 PZT缓冲层对PZT薄膜微观结构的影响
第38-40页
3.2.4 PZT缓冲层对PZT薄膜介电性能的影响
第40-41页
3.2.5 PZT缓冲层对PZT薄膜铁电和抗疲劳性能的影响
第41-43页
3.3 本章小结
第43-44页
4 掺杂PZT薄膜的制备和表征
第44-64页
4.1 掺杂PZT概述
第44-45页
4.2 PZTNb薄膜的制备和表征
第45-51页
4.2.1 PZTNb薄膜的晶向表征
第45-47页
4.2.2 PZTNb薄膜的微观结构表征
第47-48页
4.2.3 PZTNb薄膜的介电性能表征
第48-49页
4.2.4 PZTNb薄膜的铁电和抗疲劳性能表征
第49-51页
4.3 PZTNd薄膜的制备和表征
第51-61页
4.3.1 PZTNd薄膜的晶向表征
第52-54页
4.3.2 PZTNd薄膜的微观结构表征
第54-57页
4.3.3 PZTNd薄膜的介电性能表征
第57-59页
4.3.4 PZTNd薄膜的铁电和抗疲劳性能表征
第59-61页
4.4 掺杂改性机理分析
第61-62页
4.5 本章小结
第62-64页
5 压电微执行器的制作及其特性检测
第64-70页
5.1 压电微执行器的制作
第64-65页
5.2 压电微执行器的振动性能测试
第65-67页
5.3 喷墨测试
第67-69页
5.4 本章小结
第69-70页
结论
第70-72页
参考文献
第72-77页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况
第77-78页
致谢
第78-79页
本篇论文共
79
页,
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。
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