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PZT薄膜的改性研究及其在微执行器中的应用

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PZT薄膜的改性研究及其在微执行器中的应用
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-9页
1 绪论第9-22页
  1.1 PZT薄膜的发展过程及其应用第9-12页
    1.1.1 PZT薄膜的发展过程第9页
    1.1.2 PZT薄膜的应用第9-12页
  1.2 PZT材料的结构与性质第12-16页
  1.3 PZT薄膜的研究进展第16-20页
    1.3.1 PZT薄膜的制备方法第16-18页
    1.3.2 PZT薄膜的研究进展第18-20页
  1.4 论文的研究意义和研究内容第20-22页
2 PZT薄膜的制备与表征方法第22-32页
  2.1 PZT薄膜的制备过程第22-25页
    2.1.1 PZT前驱体溶液的配制第22-24页
    2.1.2 PZT溶液的旋涂方法第24页
    2.1.3 PZT薄膜的热处理过程第24-25页
  2.2 PZT薄膜的结晶过程和择优取向生长机理第25-26页
    2.2.1 PZT薄膜的结晶过程第25页
    2.2.2 PZT择优取向生长机理第25-26页
  2.3 PZT薄膜的表征方法第26-30页
    2.3.1 PZT薄膜厚度的表征方法第26-27页
    2.3.2 PZT薄膜晶向的表征方法第27-28页
    2.3.3 PZT薄膜微观形貌的表征方法第28页
    2.3.4 PZT薄膜介电性能的表征方法第28-29页
    2.3.5 PZT薄膜铁电和抗疲劳性能的表征方法第29-30页
    2.3.6 PZT薄膜振动性能的表征方法第30页
  2.4 本章小结第30-32页
3 缓冲层工艺对PZT薄膜生长的影响第32-44页
  3.1 PbTiO3缓冲层对PZT薄膜生长的影响第32-36页
    3.1.1 PbTiO3缓冲层的制备第32-33页
    3.1.2 PbTiO3缓冲层对PZT薄膜晶向和微观结构的影响第33-34页
    3.1.3 PbTiO3缓冲层对PZT薄膜介电和铁电性能的影响第34-36页
  3.2 PZT缓冲层对PZT薄膜生长的影响第36-43页
    3.2.1 PZT缓冲层的制备第36页
    3.2.2 PZT缓冲层对PZT薄膜晶向的影响第36-38页
    3.2.3 PZT缓冲层对PZT薄膜微观结构的影响第38-40页
    3.2.4 PZT缓冲层对PZT薄膜介电性能的影响第40-41页
    3.2.5 PZT缓冲层对PZT薄膜铁电和抗疲劳性能的影响第41-43页
  3.3 本章小结第43-44页
4 掺杂PZT薄膜的制备和表征第44-64页
  4.1 掺杂PZT概述第44-45页
  4.2 PZTNb薄膜的制备和表征第45-51页
    4.2.1 PZTNb薄膜的晶向表征第45-47页
    4.2.2 PZTNb薄膜的微观结构表征第47-48页
    4.2.3 PZTNb薄膜的介电性能表征第48-49页
    4.2.4 PZTNb薄膜的铁电和抗疲劳性能表征第49-51页
  4.3 PZTNd薄膜的制备和表征第51-61页
    4.3.1 PZTNd薄膜的晶向表征第52-54页
    4.3.2 PZTNd薄膜的微观结构表征第54-57页
    4.3.3 PZTNd薄膜的介电性能表征第57-59页
    4.3.4 PZTNd薄膜的铁电和抗疲劳性能表征第59-61页
  4.4 掺杂改性机理分析第61-62页
  4.5 本章小结第62-64页
5 压电微执行器的制作及其特性检测第64-70页
  5.1 压电微执行器的制作第64-65页
  5.2 压电微执行器的振动性能测试第65-67页
  5.3 喷墨测试第67-69页
  5.4 本章小结第69-70页
结论第70-72页
参考文献第72-77页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第77-78页
致谢第78-79页

本篇论文共79页,点击这进入下载页面
 
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