论文目录 | |
| 摘要 | 第1-6页 |
| abstract | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第12页 |
| 1.2 双功能催化剂催化下的异构化反应机理 | 第12-13页 |
| 1.3 轻质烷烃异构化工艺 | 第13-15页 |
| 1.3.1 国外异构化工艺 | 第13-14页 |
| 1.3.2 国内异构化工艺 | 第14-15页 |
| 1.4 异构化催化剂 | 第15-19页 |
| 1.4.1 固体超强酸催化剂 | 第15-17页 |
| 1.4.2 离子液体催化剂 | 第17-18页 |
| 1.4.3 分子筛催化剂 | 第18-19页 |
| 1.5 问题与研究思路 | 第19-22页 |
| 第二章 实验部分 | 第22-28页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第22-23页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第22-23页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第23页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第23-24页 |
| 2.2.1 nWO_x·HZSM-5 系列催化剂的制备 | 第23-24页 |
| 2.2.2 nNiWO_x·HZSM-5 系列催化剂的制备 | 第24页 |
| 2.3 催化剂的表征 | 第24-25页 |
| 2.3.1 XRD表征 | 第24-25页 |
| 2.3.2 NH_3-TPD表征 | 第25页 |
| 2.3.3 BET表征 | 第25页 |
| 2.3.4 SEM表征 | 第25页 |
| 2.4 催化剂性能评价 | 第25-28页 |
| 第三章 样品表征及分析 | 第28-58页 |
| 3.1 XRD表征 | 第28-38页 |
| 3.1.1 HZSM-5 分子筛XRD谱图 | 第28页 |
| 3.1.2 nWO_x·HZSM-5 系列催化剂XRD谱图 | 第28-36页 |
| 3.1.3 nNiWO_x·HZSM-5 系列催化剂XRD谱图 | 第36-38页 |
| 3.2 BET表征 | 第38-42页 |
| 3.2.1 nWO_x·HZSM-5 系列催化剂比表面积 | 第38-39页 |
| 3.2.2 nNiWO_x.HZSM-5 系列催化剂比表面积 | 第39-40页 |
| 3.2.3 nWO_x.HZSM-5-550 系列催化剂孔容 | 第40-41页 |
| 3.2.4 不同温度焙烧制备nWO_x.HZSM-5-0.5 催化剂的孔容 | 第41-42页 |
| 3.3 NH_3-TPD表征 | 第42-55页 |
| 3.3.1 nWO_x.HZSM-5 系列催化剂NH_3-TPD表征 | 第42-48页 |
| 3.3.2 nNiWO_x.HZSM-5 系列催化剂NH_3-TPD表征 | 第48-55页 |
| 3.4 SEM表征 | 第55-56页 |
| 3.4.1 nWO_x.HZSM-5 系列催化剂SEM表征 | 第55-56页 |
| 3.4.2 nNiWO_x.HZSM-5 系列催化剂SEM表征 | 第56页 |
| 3.5 表征小结 | 第56-58页 |
| 第四章 催化剂性能评价 | 第58-72页 |
| 4.1 nWO_x.HZSM-5 系列催化剂性能评价 | 第58-64页 |
| 4.1.1 反应温度 240℃下nWO_x.HZSM-5 催化剂性能评价 | 第58-61页 |
| 4.1.2 反应温度 260℃下nWO_x.HZSM-5 催化剂性能评价 | 第61-64页 |
| 4.2 nNiWO_x.HZSM-5 系列催化剂性能评价 | 第64-70页 |
| 4.2.1 反应温度 240℃下nNiWO_x.HZSM-5 催化剂性能评价 | 第64-67页 |
| 4.2.2 反应温度 260℃下nNiWO_x.HZSM-5 催化剂性能评价 | 第67-70页 |
| 4.3 评价小结 | 第70-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第82-84页 |
| 作者及导师简介 | 第84-85页 |
| 附件 | 第85-86页 |
