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MWECR CVD高速制备a-Si：H薄膜的工艺研究
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MWECR CVD高速制备a-Si：H薄膜的工艺研究
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstaract第5-9页
第 1 章 绪论第9-20页
　　· a-Si:H 薄膜研究进展第10-13页
　　· a-Si:H 的结构特点第13-17页
　　　　· a-Si:H 的结构特点第13-17页
　　· a-Si:H 的光电性质第17-20页
　　　　· a-Si:H 的光吸收第17-18页
　　　　· a-Si:H 的导电性能第18页
　　　　· a-Si:H 的亚稳定性第18-20页
第 2 章 MWECR CVD 系统原理与结构第20-35页
　　· 等离子体概述第21-23页
　　　　· 等离子体的基本概念第21-22页
　　　　· 等离子体的存在尺度第22-23页
　　· 微波电子回旋共振(MW ECR)等离子体第23-25页
　　　　· MW ECR 原理第23-24页
　　　　· MW ECR 等离子体特点第24-25页
　　· 用 ECR 等离子体沉积 a-Si:H 薄膜的生长机制第25-27页
　　· MW-ECR CVD 系统结构第27-29页
　　· a-Si:H 薄膜分析测试方法第29-34页
　　　　· FTIR 红外吸收谱第29-32页
　　　　· Raman 散射谱第32-33页
　　　　· X-ray 衍射谱第33页
　　　　· 紫外-可见透射和反射光谱第33页
　　　　· 直流电导测量第33-34页
　　本章小结第34-35页
第 3 章 MW ECR CVD 制备 a-Si:H 薄膜的工艺研究第35-61页
　　· 实验第36-37页
　　· 工艺参数实验优化与分析第37-60页
　　　　· 预真空第38-39页
　　　　· 气体压强与 a-Si:H 薄膜第39-45页
　　　　· H2/SiH4稀释比与 a-Si:H 薄膜第45-50页
　　　　· 磁场分布与 a-Si:H 薄膜第50-59页
　　　　· 微波功率与 a-Si:H 薄膜第59-60页
　　本章小结第60-61页
第 4 章 热丝辅助 MW ECR CVD 高速制备优质 a-Si:H第61-76页
　　· 热丝 CVD 技术进展第61-62页
　　· 热丝的优点与不足第62页
　　· HWCVD 的基本反应过程第62-64页
　　· 实验第64-65页
　　· 实验结果与分析第65-73页
　　　　· 实验结果第65-72页
　　　　· 实验分析第72-73页
　　· HW MW ECRCVD 系统沉积 a-Si:H 薄膜均匀性分析第73-75页
　　本章小结第75-76页
结论第76-78页
参考文献第78-84页
硕士期间发表的学术论文第84-85页
致谢第85页

本篇论文共85页，点击这进入下载页面。
 
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