硼和氮掺杂CVD金刚石膜的生长及特性研究



硼和氮掺杂CVD金刚石膜的生长及特性研究

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硼和氮掺杂CVD金刚石膜的生长及特性研究

论文目录
内容提要	第1-7 页
第一章绪论	第7-15 页
· 金刚石的晶体结构	第7-8 页
· 金刚石的性质	第8-11 页
· 碳的P-T相图和CVD金刚石的化学反应	第11-12 页
· 人工合成金刚石的研究进展	第12-13 页
· 金刚石在电学方面的应用存在的问题	第13-14 页
· 论文的选题及主要内容	第14-15 页
第二章实验设备简介及金刚石的表征	第15-22 页
· CVD金刚石膜的制备技术简介	第15-17 页
· MPCVD的分类及直接侧耦合石英管式MPCVD装置	第17-20 页
· CVD金刚石膜的主要表征手段	第20-22 页
第三章掺硼金刚石膜的制备及性质研究	第22-32 页
· 掺硼金刚石膜的制备	第22-24 页
· 不同掺硼浓度金刚石膜形貌及光发射谱研究	第24-27 页
· 掺硼金刚石膜的XRD和Raman研究	第27-29 页
· 掺硼金刚石膜电学性质的研究	第29-30 页
· 本章小结	第30-32 页
第四章高CH_4浓度条件下制备纳米金刚石膜及电学性质研究	第32-49 页
· 高CH_4浓度条件下制备本征纳米金刚石膜	第32-37 页
· 低的N_2浓度对高CH_4条件下纳米金刚石膜的影响	第37-40 页
· 高N_2浓度条件下制备纳米金刚石膜及电学性质研究	第40-48 页
· 本章小结	第48-49 页
第五章全文总结	第49-51 页
参考文献	第51-59 页
攻读学位期间发表的学术论文	第59-60 页
致谢	第60-61 页
摘要	第61-63 页
Abstract	第63-64 页

本篇论文共64页，点击这进入下载页面。

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