论文目录 | |
| 摘要 | 第1-10
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| ABSTRACT | 第10-12
页 |
| 第一章 绪论 | 第12-18
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| · 课题来源及意义 | 第12-13
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| · 课题的来源 | 第12
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| · 课题研究的背景及意义 | 第12-13
页 |
| · 氟化钙单晶材料的加工技术现状 | 第13-15
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| · 单点金刚石加工(SPDT) | 第13-14
页 |
| · 离子束加工(IBF) | 第14
页 |
| · 磁流变抛光(MRF) | 第14-15
页 |
| · 磁流变抛光技术的发展 | 第15-17
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| · 本文主要研究内容 | 第17-18
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| 第二章 磁流变抛光抑制中频误差的工艺研究 | 第18-31
页 |
| · 影响磁流变加工中频误差的因素和解决方法 | 第18
页 |
| · 磁流变随机行距法抛光抑制中频误差的仿真分析 | 第18-27
页 |
| · 理论分析 | 第18-21
页 |
| · 磁流变固定行距法抛光残留误差仿真模型的建立 | 第21-23
页 |
| · 磁流变随机行距法抛光残留误差仿真模型的建立 | 第23-25
页 |
| · 磁流变随机行距法抛光与磁流变固定行距法抛光仿真结果比较 | 第25-27
页 |
| · 磁流变随机行距法抛光抑制中频误差实验 | 第27-30
页 |
| · 磁流变随机行距法抛光和固定行距法抛光面形结果比较 | 第27-29
页 |
| · 磁流变抛光随机行距法和固定行距法仿真残留误差的PSD 曲线 | 第29-30
页 |
| · 本章小结 | 第30-31
页 |
| 第三章 氟化钙单晶材料磁流变抛光工艺参数优化研究 | 第31-40
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| · 磁流变工艺参数对氟化钙单晶材料去除效率的影响实验 | 第31-34
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| · 去除效率实验结果的测量方法 | 第31
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| · 实验方法的选择 | 第31-32
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| · 实验设计和实验结果的处理和分析 | 第32-34
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| · 磁流变工艺参数对氟化钙单晶材料表面粗糙度的影响实验 | 第34-39
页 |
| · 表面粗糙度实验结果的测量方法 | 第34-35
页 |
| · 实验方案的设计 | 第35-36
页 |
| · 实验结果的处理和分析 | 第36-39
页 |
| · 本章小结 | 第39-40
页 |
| 第四章 各向异性氟化钙单晶材料的磁流变抛光修形理论 | 第40-53
页 |
| · 氟化钙单晶材料的结构特性和力学特性 | 第40-43
页 |
| · 氟化钙单晶材料的晶体结构 | 第40
页 |
| · 氟化钙单晶材料的力学特性 | 第40-43
页 |
| · 材料力学特性对磁流变抛光去除模型的影响 | 第43
页 |
| · 磁流变抛光氟化钙单晶材料面形残差的仿真分析 | 第43-50
页 |
| · 常规磁流变工艺抛光氟化钙单晶材料面形残差仿真分析 | 第44-48
页 |
| · 磁流变驻留时间补偿工艺抛光氟化钙单晶材料的面形仿真 | 第48-50
页 |
| · 面形残差仿真结果比较和分析 | 第50
页 |
| · 磁流变机床后置处理理论研究 | 第50-52
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| · 本章小结 | 第52-53
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| 第五章 总结和展望 | 第53-55
页 |
| · 全文总结 | 第53
页 |
| · 研究展望 | 第53-55
页 |
| 致谢 | 第55-57
页 |
| 参考文献 | 第57-60
页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第60
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