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氮化钛薄膜的制备及其光、电性能的研究
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氮化钛薄膜的制备及其光、电性能的研究
论文目录
 
摘要第1-5 页
Abstract第5-11 页
第一章 绪论第11-22 页
　　· 薄膜的形成过程第11-12 页
　　· 氮化钛(TiN_x)的结构与基本特性第12-14 页
　　　　· 氮化钛的结构第12-14 页
　　　　· 氮化钛的基本特性第14 页
　　· 氮化钛薄膜研究现状第14-21 页
　　　　· 氮化钛薄膜机械性能的研究第14-17 页
　　　　· 氮化钛薄膜光学性能的研究第17-18 页
　　　　· 氮化钛薄膜的电学性能第18-21 页
　　· 本课题研究的内容及意义第21-22 页
第二章 磁控溅射镀膜技术第22-30 页
　　· 溅射镀膜的原理第22-26 页
　　　　· 辉光放电的原理第22-25 页
　　　　· 溅射的过程第25-26 页
　　· 反应磁控溅射的原理第26-30 页
　　　　· 磁控溅射第26-28 页
　　　　· 反应溅射第28-30 页
第三章 氮化钛薄膜制备过程和结构性能测试第30-35 页
　　· 制备氮化钛薄膜的设备和源材料第30 页
　　· 氮化钛薄膜制备的实验过程第30-32 页
　　　　· 基片的清洗第30 页
　　　　· 氮化钛薄膜的制备第30-32 页
　　· 氮化钛薄膜的结构与导电性能测试第32-35 页
　　　　· 物相分析(X射线衍射)第32 页
　　　　· 表面形貌分析(原子力显微镜)第32-33 页
　　　　· 薄膜厚度测试(台阶仪)第33 页
　　　　· 电阻率测试(四探针测试仪)第33 页
　　　　· 光学反射率的测试(紫外可见分光光度计)第33-35 页
第四章 测量结果与讨论第35-71 页
　　· 基底对TiN_x薄膜结构与性能的影响第35-38 页
　　　　· 基底对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响第36 页
　　　　· 基底对TiN_x薄膜表面形貌的影响第36-38 页
　　· 腔体气压气压对TiN_x薄膜的结构与性能影响第38-47 页
　　　　· 腔体气压对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响第38-40 页
　　　　· 腔体气压对TiN_x薄膜表面形貌的影响第40-43 页
　　　　· 腔体气压对TiN_x薄膜厚度的影响第43-44 页
　　　　· 腔体气压对TiN_x薄膜电阻率的影响第44-46 页
　　　　· 腔体气压对TiN_x薄膜光学反射率的影响第46-47 页
　　· 基底温度对TiN_x薄膜结构与性能的影响第47-55 页
　　　　· 基底温度对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响第47-48 页
　　　　· 基底温度对TiN_x薄膜表面形貌的影响第48-52 页
　　　　· 基底温度对TiN_x薄膜厚度的影响第52-53 页
　　　　· 基底温度对TiN_x薄膜电阻率的影响第53-54 页
　　　　· 基底温度对TiN_x薄膜光学反射率的影响第54-55 页
　　· Ar/N_2流量比对TiN_x薄膜结构与性能的影响第55-63 页
　　　　· Ar/N_2流量比对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响第56-57 页
　　　　· Ar/N_2流量比对TiN_x薄膜表面形貌的影响第57-60 页
　　　　· Ar/N_2流量比对TiN_x薄膜厚度的影响第60-61 页
　　　　· Ar/N_2流量比对TiN_x薄膜电阻率的影响第61-62 页
　　　　· Ar/N_2流量比对TiN_x薄膜光学反射率的影响第62-63 页
　　· 溅射电流对TiN_x薄膜的结构与性能的影响第63-71 页
　　　　· 溅射电流对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响第63-64 页
　　　　· 溅射电流对TiN_x薄膜表面形貌的影响第64-67 页
　　　　· 溅射电流对TiN_x薄膜厚度的影响第67-68 页
　　　　· 溅射电流对TiN_x薄膜电阻率的影响第68-69 页
　　　　· 溅射电流对TiN_x薄膜光学反射率的影响第69-71 页
第五章 结论第71-74 页
致谢第74-75 页
参考文献第75-80 页
攻读学位期间的研究成果第80 页

本篇论文共80页，点击这进入下载页面。
 
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