ITO薄膜晶体管的制备及其性能研究



ITO薄膜晶体管的制备及其性能研究

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ITO薄膜晶体管的制备及其性能研究

论文目录
摘要	第1-6页
Abstract	第6-10页
第1章绪论	第10-30页
· 薄膜晶体管的基本概念	第10-14页
· 薄膜晶体管典型器件结构	第10页
· 薄膜晶体管的工作机理	第10-12页
· 薄膜晶体管的性能参数	第12-13页
· 薄膜晶体管的 I-V 特性	第13-14页
· 薄膜晶体管的发展历程及研究现状	第14-21页
· 薄膜晶体管发展历程	第14-19页
· 薄膜晶体管近十年发展的现状	第19-21页
· 薄膜晶体管的主要类型及其各自特点分析	第21-25页
· a-Si：H（氢化非晶硅）薄膜晶体管	第21-22页
· p-Si(多晶硅)薄膜晶体管	第22-23页
· 有机物薄膜晶体管	第23页
· 氧化物薄膜晶体管	第23-25页
· ITO 薄膜	第25-26页
· ITO 薄膜的基本性质	第25页
· ITO 薄膜电学参数的关系	第25-26页
· ITO 薄膜的应用	第26页
· 课题研究背景及内容	第26-30页
· 课题选取的背景	第27页
· ITO 薄膜晶体管发展面临的问题	第27-28页
· 本论文的主要内容	第28-30页
第2章薄膜晶体管制备工艺以及测试分析方法	第30-41页
· 器件衬底的选择以及清洗	第30-31页
· 衬底的选择	第30页
· 衬底的清洗	第30-31页
· 栅极、源漏电极的选择以及制备工艺	第31-32页
· 栅极、源漏电极的选择	第31页
· 栅极、源漏电极的薄膜制备工艺	第31-32页
· 栅介质材料的选择以及制备工艺	第32-35页
· 栅介质材料的选择	第32-33页
· 栅介质的制备工艺	第33-35页
· 沟道层材料的选择和制备工艺	第35-38页
· 沟道材料的选择	第35-36页
· ITO 沟道的制备工艺	第36-38页
· 薄膜晶体管的光学特性分析	第38-39页
· 薄膜晶体管电学性能分析技术	第39-41页
· 半导体分析仪	第39页
· 阻抗分析仪	第39-40页
· 霍尔效应分析仪	第40-41页
第3章实验制备ITO 薄膜晶体管及性能检测	第41-50页
· 实验制备ITO 薄膜晶体管	第41-43页
· 清洗硅片衬底	第41页
· 制备SiO_2 栅介质	第41-42页
· 制备ITO 沟道层	第42-43页
· 制备ITO 源漏电极	第43页
· ITO TFTs 器件的性能检测	第43-45页
· 介孔二氧化硅及双电荷层理论	第45-49页
· 介孔二氧化硅薄膜结构	第45-46页
· 双电荷层理论	第46-47页
· 电容和频率关系的讨论	第47-49页
· 总结	第49-50页
第4章一步掩膜工艺制备低工作电压ITO TFTs	第50-59页
· LiCl 溶液浸泡处理对器件电容的影响	第50-52页
· 实验制备样品	第50-51页
· 分析电容和LiCl 溶液浓度的关系	第51-52页
· 一步掩膜工艺制备ITO 薄膜晶体管	第52-53页
· 器件的电学性能检测结果	第53-56页
· 器件低工作电压的讨论	第56-58页
· 低电压工作原理	第56-57页
· 栅介质的讨论	第57-58页
· 本章总结	第58-59页
结论与展望	第59-60页
参考文献	第60-64页
致谢	第64 页

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