基于热机偏转的红外探测技术研究



基于热机偏转的红外探测技术研究

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基于热机偏转的红外探测技术研究

论文目录
摘要	第1-4页
Abstract	第4-8页
1 绪论	第8-20页
· 引言	第8页
· 红外探测技术概述	第8-15页
· 红外探测技术发展	第11-12页
· 红外探测器的分类	第12-14页
· 目前红外探测器存在的问题	第14-15页
· 光学读出式红外探测器的研究进展	第15-18页
· 本文的主要研究工作	第18-20页
2 基于热机偏转的红外探测系统	第20-26页
· 探测系统介绍	第20-21页
· 探测器敏感机理	第21-24页
· 双材料梁探测机理	第21-23页
· 材料选择	第23-24页
· 探测器件的成像原理	第24页
· 基于热机偏转红外探测器件实验设计	第24-26页
· 器件单元设计	第24页
· 氮化硅性能测试	第24-25页
· 器件制作	第25-26页
3 器件单元设计及制备方法	第26-34页
· 单元结构设计	第26-27页
· 微悬臂梁制作工艺	第27-28页
· 红外吸收层制作	第28-31页
· PECVD沉积系统	第28-29页
· 感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术	第29-31页
· 反光层制作	第31-34页
· 磁控溅射系统	第31-32页
· 金膜的剥离	第32-34页
4 用于红外吸收层的薄膜性能研究	第34-49页
· 氮化硅的结构	第34页
· 氮化硅薄膜的基本性质	第34-35页
· 氮化硅薄膜的制备工艺	第35页
· 氮化硅薄膜刻蚀工艺的研究	第35-41页
· 薄膜制备参数	第35-36页
· 掩膜制作	第36页
· 数据检测	第36页
· 实验数据及分析	第36-41页
· 氮化硅薄膜应力分析	第41-44页
· 测试原理	第41-42页
· 测试数据及分析	第42-44页
· 氮化硅红外吸收性能分析	第44-48页
· 测试原理	第44页
· 实验数据检测及分析	第44-48页
· 本章小结	第48-49页
5 器件制作	第49-63页
· 牺牲层制作	第49-58页
· 牺牲层材料选择	第49页
· 牺牲层生长	第49-50页
· 牺牲层图形化	第50-55页
· 牺牲层的固化	第55-56页
· PI胶等离子体刻蚀	第56-58页
· 反光层制备	第58-60页
· 反光层图形化	第58-59页
· 磁控溅射制备金膜	第59-60页
· 红外吸收层制作	第60-62页
· 氮化硅薄膜的制备	第60-61页
· 氮化硅薄膜的刻蚀	第61-62页
· 本章小结	第62-63页
6 结论	第63-66页
· 结论	第63-64页
· 展望	第64-66页
参考文献	第66-70页
攻读硕士学位期间发表的论文	第70-71页
致谢	第71-73页

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