化学机械抛光机机械本体设计—硕士毕业论文下载



化学机械抛光机机械本体设计

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化学机械抛光机机械本体设计

论文目录
摘要	第1-5 页
Abstract	第5-8 页
1 绪论	第8-16 页
· 论文的选题背景	第8-14 页
· CMP(Chemical Mechanical Polishing)技术概述	第8-9 页
· 国内外 CMP机床发展现状	第9-11 页
· CMP机床的分类及其主要特点	第11-14 页
· 课题的背景及来源	第14-15 页
· 论文主要研究内容	第15-16 页
2 CMP抛光机运动形式对材料去除的影响分析	第16-22 页
· 材料去除的数学模型	第16-19 页
· Preston方程	第16-17 页
· 直线轨道式抛光机的材料去除方程	第17-18 页
· 定偏心式抛光机的材料去除方程	第18 页
· 弧形轨道式抛光机的材料去除方程	第18-19 页
· 材料去除的数值分析	第19-21 页
· 材料去除率的数值分析	第19-20 页
· 材料去除非均匀性的数值分析	第20-21 页
· 本章小结	第21-22 页
3 CMP抛光机总体结构方案设计	第22-29 页
· 弧形轨道式结构方案	第22-27 页
· 抛光盘支撑部件设计方案	第22-23 页
· 抛光头摆动装置方案	第23-24 页
· 抛光头摆动中心及抛光盘装卸位方案	第24-25 页
· 抛光头传动及加压部件结构方案	第25-26 页
· 总体结构方案	第26-27 页
· 直线轨道式结构方案的设计	第27-28 页
· 机床主要技术参数	第27 页
· 直线轨道式抛光机总体结构方案	第27-28 页
· 本章小结	第28-29 页
4 CMP机台机械本体设计	第29-59 页
· 主要设计依据	第29-31 页
· 试验参考数据	第29 页
· 抛光盘最大摩擦力和摩擦转矩	第29-30 页
· 抛光头最大摩擦力和摩擦转矩	第30-31 页
· 抛光盘部件结构设计	第31 页
· 抛光盘动力提供机构设计	第31-37 页
· 抛光盘传动系统设计	第32-35 页
· 抛光盘电机	第35 页
· 抛光盘减速器	第35-36 页
· 抛光盘联轴器	第36-37 页
· 抛光头部件设计	第37-52 页
· 抛光头加压部件结构	第37-38 页
· 抛光头加压部件选型	第38 页
· 抛光头动力提供及传动装置	第38-41 页
· 抛光头直线往复运动导轨	第41-46 页
· 抛光头垂直导轨	第46-48 页
· 抛光头摆动丝杠	第48-52 页
· 基座结构设计	第52-53 页
· 关键部件的结构静力学分析	第53-58 页
· 基座的结构静力学分析	第53-55 页
· 垂向溜板的静力学分析	第55-56 页
· 横向溜板与支架的静力学分析	第56-58 页
· 本章小结	第58-59 页
结论	第59-60 页
参考文献	第60-62 页
附录A 零件清单	第62-66 页
致谢	第66-67 页
大连理工大学学位论文版权使用授权书	第67 页

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