大面积高精度PCB光刻技术的研究



大面积高精度PCB光刻技术的研究

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大面积高精度PCB光刻技术的研究

论文目录
摘要	第1-5页
Abstract	第5-7页
目录	第7-9页
CONTENES	第9-11页
第一章绪论	第11-17页
1.1 光刻技术简介	第11页
1.2 光刻技术的发展历史	第11-13页
1.3 PCB光刻的国内外进展	第13-14页
1.4 本课题的重要意义	第14-16页
1.5 本课题研究的主要内容	第16-17页
第二章等比激光投影光刻技术和DMD动态无掩模光刻技术简介	第17-23页
2.1 等比激光投影光刻投影光刻技术	第17-19页
2.2 DMD动态无掩模光刻技术	第19-21页
2.2.1 DMD的内部结构	第19-20页
2.2.2 DMD动态无掩膜光刻的原理	第20-21页
2.3 两种光刻方法的优势整合	第21-23页
第三章一种辨率为4μml的DMD光刻投影物镜设计	第23-32页
3.1 芯片选择	第23页
3.2 光学设计	第23-26页
3.2.1 设计要点	第23-24页
3.2.2 系统基本参数确定	第24-25页
3.2.3 设计过程	第25-26页
3.3 结果分析	第26-32页
3.3.1 点列图	第27-28页
3.3.2 光程差OPD	第28页
3.3.3 调制传递函数MTF	第28-29页
3.3.4 场区和畸变	第29-30页
3.3.5 像面相对照度	第30页
3.3.6 公差分析	第30-32页
第四章 8μm的折叠式光刻投影物镜设计	第32-40页
4.1 设计要点	第32-33页
4.2 设计过程	第33-35页
4.3 结果分析	第35-40页
4.3.1 点列图	第36-37页
4.3.2 光程差OPD	第37页
4.3.3 调制传递函数MTF	第37-38页
4.3.4 场区和畸变	第38页
4.3.5 像面相对照度	第38页
4.3.6 公差分析	第38-40页
第五章反馈式精密二维位移平台设计	第40-46页
5.1 光刻系统的三大主体	第40页
5.2 精密二维位移平台的定位原理	第40-41页
5.3 设计过程	第41-45页
5.3.1 牵引驱动装置	第42-44页
5.3.2 基线瞄准装置	第44页
5.3.3 人机交互平台设计	第44-45页
5.4 设计结果	第45-46页
总结	第46-48页
参考文献	第48-50页
攻读学位期间发表的论文	第50-52页
致谢	第52页

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