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直流磁控溅射法制备Sn-Sb系透明导电氧化物薄膜
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直流磁控溅射法制备Sn-Sb系透明导电氧化物薄膜
论文目录
 
致谢第1-5 页
摘要第5-6 页
Abstract第6-7 页
目录第7-10 页
第1章 文献综述第10-29 页
　　· 引言第10 页
　　· TCO薄膜的掺杂机理第10-11 页
　　· n型透明导电氧化物第11-16 页
　　　　· ZnO基TCO薄膜第11-12 页
　　　　· SnO_2基TCO薄膜第12-14 页
　　　　· In_2O_3基透明导电氧化物薄膜第14-15 页
　　　　· 多元透明导电氧化物薄膜第15-16 页
　　· p型透明导电氧化物薄膜第16-24 页
　　　　· 铜铁矿结构p型TCO薄膜第16-19 页
　　　　· p型ZnO薄膜第19-22 页
　　　　· p型SnO_2的掺杂研究第22-24 页
　　· Sb_2O_4的基本性质第24-25 页
　　· SnO_2薄膜的性质第25-26 页
　　· 研究目的和意义第26-27 页
　　· 本章小结第27-29 页
第2章 氧化物薄膜的制备及性能表征第29-39 页
　　· 磁控溅射法第29-31 页
　　　　· 直流反应磁控溅射系统第29-30 页
　　　　· 溅射镀膜的墓本原理第30-31 页
　　　　· 薄膜生长模式第31 页
　　· 直流反应磁控溅射技术第31-34 页
　　　　· 磁控溅射工作原理第31-32 页
　　　　· 直流反应磁控溅射第32-33 页
　　　　· 直流磁控溅射薄膜微观结构的影响因素第33-34 页
　　· 薄膜的制备过程第34-36 页
　　　　· 薄膜制备的准备工作第34 页
　　　　· 薄膜的制备第34-36 页
　　· 薄膜性能的表征第36-38 页
　　　　· 薄膜的晶体学性能第36 页
　　　　· 薄膜的光学性能第36-37 页
　　　　· 薄膜的表面形貌和成分分析第37 页
　　　　· 薄膜的电学性能第37-38 页
　　　　· 薄膜元素的化学状态第38 页
　　· 本章小结第38-39 页
第3章 氧化锑掺锡薄膜的研究第39-53 页
　　· O_2/Ar流量比对薄膜性能的影响第39-45 页
　　　　· 晶体结构第39-40 页
　　　　· 表面形貌第40-41 页
　　　　· 光学性能第41-43 页
　　　　· 电学性能第43-45 页
　　· Sn/Sb比对薄膜性能的影响第45-49 页
　　　　· 晶体结构第45-46 页
　　　　· 光学性能第46-47 页
　　　　· 电学性能第47-49 页
　　· 热处理温度对薄膜性能的影响第49-52 页
　　　　· 晶体结构及表面形貌第49-51 页
　　　　· 电学性能第51-52 页
　　· 本章小结第52-53 页
第4章 二氧化锡掺锑薄膜的研究第53-68 页
　　· 掺Sb的SnO_2薄膜的制备第53-54 页
　　· 实验结果与讨论第54-64 页
　　　　· 不同O_2流量(总流量 220sccm)对Sb_2O_4:Sn薄膜性能的影响第54-61 页
　　　　· 不同气体流量(总流量 272sccm)对SnO_2:Sb薄膜性能的影响第61-64 页
　　· Sn/Sb比对SnO_2:Sb薄膜性能的影响第64-67 页
　　　　· 晶体结构第64-65 页
　　　　· 电学性能第65-66 页
　　　　· 光学性能第66-67 页
　　· 结论第67-68 页
第5章 结论第68-69 页
参考文献第69-78 页
作者简历第78 页

本篇论文共78页，点击这进入下载页面。
 
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