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In-N共掺制备p型ZnO与ZnMgO薄膜及其性能的研究
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In-N共掺制备p型ZnO与ZnMgO薄膜及其性能的研究
论文目录
 
摘要第1-6 页
Abstract第6-10 页
第一章 前言第10-12 页
第二章 文献综述第12-31 页
　　· ZnO的结构与性能第12-16 页
　　　　· ZnO的基本性质第12-15 页
　　　　· ZnO的光电性质第15-16 页
　　· ZnO的缺陷与掺杂第16-25 页
　　　　· ZnO中的本征缺陷第17-18 页
　　　　· ZnO中的非故意掺杂第18-19 页
　　　　· ZnO的n型掺杂第19 页
　　　　· ZnO的p型掺杂第19-25 页
　　· ZnMgO三元合金及其p型掺杂的研究状况第25-30 页
　　　　· ZnMgO三元合金的结构第26 页
　　　　· ZnMgO薄膜p型掺杂的研究状况第26-28 页
　　　　· ZnMgO三元合金的应用第28-30 页
　　· 立题背景、目的和主要研究内容第30-31 页
第三章 实验设备、薄膜工艺及性能表征第31-40 页
　　· 直流反应磁控溅射技术原理第31-33 页
　　· 实验设备第33-36 页
　　　　· 实验设备(一)第33-35 页
　　　　· 实验设备(二)第35-36 页
　　· 薄膜工艺第36-39 页
　　　　· 靶材的制备第36-37 页
　　　　· 衬底及其清洗第37 页
　　　　· 薄膜的制备过程第37-39 页
　　· 性能表征第39-40 页
第四章 N_2O作为N掺杂源制备In-N共掺p型ZnO薄膜第40-53 页
　　· 衬底温度对薄膜性能的影响第40-47 页
　　　　· 结构分析第41-43 页
　　　　· 电学性能分析第43-45 页
　　　　· 薄膜成分与光学性能分析第45-47 页
　　· N_2O气体流量对薄膜电学性能的影响第47-52 页
　　　　· 样品制备第47-48 页
　　　　· 结构分析第48-49 页
　　　　· 电学性能分析第49-52 页
　　· 本章小结第52-53 页
第五章 NH_3作为N掺杂源制备In-N共掺p型ZnO薄膜第53-71 页
　　· 衬底温度对薄膜性能的影响第53-60 页
　　　　· 结构分析第54-55 页
　　　　· 电学性能分析第55-58 页
　　　　· 薄膜的 XPS分析第58-59 页
　　　　· 光学性能分析第59-60 页
　　· 氧气分压对薄膜结晶质量、光学性能的影响第60-64 页
　　　　· 结构分析第61 页
　　　　· 电学性能分析第61-63 页
　　　　· 光学性能分析第63-64 页
　　· In含量对薄膜性能的影响第64-70 页
　　　　· 样品制备第64 页
　　　　· 结构分析第64-66 页
　　　　· 电学性能分析第66-67 页
　　　　· 薄膜的XPS分析第67-68 页
　　　　· 光学性能分析第68-70 页
　　· 本章小结第70-71 页
第六章 ZnMgO三元合金薄膜及In-N共掺p型ZnMgO薄膜的制备第71-87 页
　　· Mg含量对 ZnMgO薄膜性能的影响第72-79 页
　　　　· 样品制备第72-73 页
　　　　· ZnMgO薄膜和靶材中Mg含量的对应关系第73-74 页
　　　　· 结构分析第74-76 页
　　　　· 光学性能分析第76-79 页
　　· Mg含量对In-N共掺p型 ZnMgO薄膜性能的影响第79-84 页
　　　　· 样品制备第79 页
　　　　· 结构分析第79-81 页
　　　　· 电学性能分析第81-82 页
　　　　· 光学性能分析第82-83 页
　　　　· 思考与展望第83-84 页
　　· In-N共掺ZnMgO异质pn结的制备第84-86 页
　　· 本章小结第86-87 页
第七章 结论第87-89 页
参考文献第89-96 页
附录I 攻读硕士学位期间发表或录用的论文及专利第96-97 页
附录II 致谢第97 页

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