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基于电流体直写掩膜的晶体管制备与表征

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基于电流体直写掩膜的晶体管制备与表征
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-9页
  1. 绪论第9-20页
  1.1 课题来源第9页
  1.2 课题的背景和意义第9-11页
  1.3 国内外研究进展第11-18页
  1.4 本课题主要工作第18-20页
  2. 基于电流体直写工艺的纤维制备第20-34页
  2.1 电流体直写工艺原理第20-22页
  2.2 电流体直写过程和实验平台第22-25页
  2.3 大面积微纳纤维图案直写第25-29页
  2.4 工艺参数对纤维宽度的影响第29-33页
  2.5 本章小结第33-34页
  3. 基于电流体直写纤维的沟道制备第34-42页
  3.1 基于电流体工艺的沟道制备原理第34-36页
  3.2 沟道制备及实验设备第36-40页
  3.3 沟道长度与纤维宽度对应关系第40-41页
  3.4 本章小结第41-42页
  4. 基于电流体直写工艺的晶体管制备第42-65页
  4.1 OTFT发展历程及工作原理第42-45页
  4.2 OTFT制备及性能表征第45-52页
  4.3 OTFT性能优化第52-64页
  4.4 本章小结第64-65页
  5. 总结与展望第65-67页
  5.1 全文总结第65页
  5.2 研究展望第65-67页
致谢第67-68页
参考文献第68-73页
附录 作者攻读硕士学位期间取得的成果第73页

本篇论文共73页,点击这进入下载页面
 
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