基于电流体直写掩膜的晶体管制备与表征
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基于电流体直写掩膜的晶体管制备与表征
论文目录
摘要
第1-5页
Abstract
第5-9页
1. 绪论
第9-20页
1.1 课题来源
第9页
1.2 课题的背景和意义
第9-11页
1.3 国内外研究进展
第11-18页
1.4 本课题主要工作
第18-20页
2. 基于电流体直写工艺的纤维制备
第20-34页
2.1 电流体直写工艺原理
第20-22页
2.2 电流体直写过程和实验平台
第22-25页
2.3 大面积微纳纤维图案直写
第25-29页
2.4 工艺参数对纤维宽度的影响
第29-33页
2.5 本章小结
第33-34页
3. 基于电流体直写纤维的沟道制备
第34-42页
3.1 基于电流体工艺的沟道制备原理
第34-36页
3.2 沟道制备及实验设备
第36-40页
3.3 沟道长度与纤维宽度对应关系
第40-41页
3.4 本章小结
第41-42页
4. 基于电流体直写工艺的晶体管制备
第42-65页
4.1 OTFT发展历程及工作原理
第42-45页
4.2 OTFT制备及性能表征
第45-52页
4.3 OTFT性能优化
第52-64页
4.4 本章小结
第64-65页
5. 总结与展望
第65-67页
5.1 全文总结
第65页
5.2 研究展望
第65-67页
致谢
第67-68页
参考文献
第68-73页
附录 作者攻读硕士学位期间取得的成果
第73页
本篇论文共
73
页,
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。
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