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TB2合金表面抗高温氧化TiAl涂层的制备
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TB2合金表面抗高温氧化TiAl涂层的制备
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第1章 绪论第9-20页
　　· 课题背景及研究目的和意义第9-10页
　　· 国内外研究现状及分析第10-19页
　　　　· 钛合金的氧化第10-11页
　　　　· 磁控溅射法制备 Ti-Al-(Cr)涂层第11-16页
　　　　· F 离子注入 Ti-Al 合金第16-19页
　　· 本文主要研究内容第19-20页
第2章 实验材料、设备及实验方法第20-25页
　　· 基体和溅射靶材第20-21页
　　· 磁控溅射设备第21-22页
　　· F 离子注入设备第22-23页
　　· 分析测试设备第23页
　　　　· X 射线衍射仪(XRD)第23页
　　　　· 扫描电子显微镜第23页
　　　　· 摩擦性能测试第23页
　　　　· 膜基结合力测试第23页
　　· 高温防护性能实验第23-25页
　　　　· 恒温氧化实验第24页
　　　　· 循环氧化实验第24-25页
第3章 TiAl 涂层的制备及性能研究第25-37页
　　· 磁控溅射制备 TiAl 涂层第25-29页
　　　　· 射频磁控溅射制备 TiAl 涂层第25-26页
　　　　· 直流磁控溅射制备 TiAl 涂层第26-29页
　　· TiAl 靶溅射光谱谱线分析第29-30页
　　· F 离子注入 TiAl 涂层第30页
　　· TiAl 涂层的组织结构第30-34页
　　　　· TiAl 涂层的相组成分析第30-33页
　　　　· TiAl 涂层的形貌及其能谱分析第33-34页
　　· TiAl 涂层的力学性能分析第34-35页
　　　　· TiAl 涂层的膜基结合力第34页
　　　　· TiAl 涂层的摩擦磨损性能第34-35页
　　· 本章小结第35-37页
第4章 TiAl 涂层的高温氧化行为第37-55页
　　· 引言第37页
　　· 实验方法第37-38页
　　· 基体与 Ti-45Al 涂层的等温氧化第38-48页
　　　　· Ti-45Al 涂层的等温氧化行为第38-40页
　　　　· Ti-45Al 涂层等温氧化后 XRD 分析及表面形貌第40-44页
　　　　· Ti-45Al 涂层等温氧化后截面形貌第44-48页
　　· 基体与涂层的循环氧化性能第48-53页
　　　　· 涂层的循环氧化行为第48-50页
　　　　· 循环氧化表面与截面形貌第50-53页
　　· 本章小结第53-55页
第5章 Al 沉积辅助磁控溅射制备 TiAl 涂层的性能第55-65页
　　· 引言第55页
　　· 实验方法第55-56页
　　· 涂层的组织结构第56-58页
　　　　· 涂层的相组成分析第56页
　　　　· 涂层的表面形貌及能谱第56-57页
　　　　· 涂层的膜基结合力第57-58页
　　· 涂层的等温氧化第58-63页
　　　　· 涂层的等温氧化行为第58-59页
　　　　· 涂层等温氧化后 XRD 分析及其表面形貌第59-61页
　　　　· 涂层等温氧化后截面形貌及线扫描能谱第61-63页
　　· 本章小结第63-65页
结论第65-66页
参考文献第66-71页
致谢第71 页

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