激光诱发Ti/α-Si多层膜自蔓延反应



激光诱发Ti/α-Si多层膜自蔓延反应

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激光诱发Ti/α-Si多层膜自蔓延反应

论文目录
摘要	第1-5页
Abstract	第5-9页
第1章绪论	第9-20页
· 课题背景及研究目的	第9页
· 国内外的研究现状	第9-19页
· 多层膜材料体系	第9-10页
· 自蔓延反应速率	第10-13页
· 自蔓延反应放热量	第13-16页
· 多层薄膜自蔓延反应的机理	第16-18页
· 激光诱发多层薄膜自蔓延反应	第18-19页
· 本文主要研究内容	第19-20页
第2章试验材料及方法	第20-23页
· 试验材料	第20页
· 试验方法及设备	第20-23页
· 磁控溅射设备	第20-21页
· 薄膜表面形貌及粗糙度分析	第21页
· 脉冲激光器诱发自蔓延反应	第21页
· 薄膜反应产物形貌及成分分析	第21-22页
· 热分析	第22-23页
第3章 Ti/α-Si 纳米多层膜的制备及表征	第23-35页
· Ti/α-Si 薄膜体系热力学计算	第23-28页
· Ti 和α-Si 沉积速率的测定	第28-31页
· Ti/α-Si 纳米多层薄膜的制备	第31-32页
· Ti/α-Si 多层纳米膜的表征	第32-34页
· 本章小结	第34-35页
第4章 Ti/α-Si 多层薄膜自蔓延反应的诱发	第35-49页
· 多层膜结构与激光诱发能量的关系	第35-37页
· 自蔓延反应速率与薄膜体系结构的关系	第37-43页
· 多层膜调制周期对反应速率的影响	第39-40页
· 薄膜层数对反应速率的影响	第40页
· 氧化层厚度对反应速率的影响	第40-42页
· 预扩散层厚度对反应速率的影响	第42-43页
· 反应产物	第43-48页
· 形貌分析	第43-47页
· 成分分析	第47-48页
· 本章小结	第48-49页
第5章 Ti/α-Si 多层薄膜反应热分析	第49-66页
· 牺牲层的制备	第49-50页
· 制备流程	第49-50页
· PMMA 牺牲层的表面分析	第50页
· Ti/α-Si 多层膜反应放热	第50-53页
· DTA 处理后反应产物的分析	第53-58页
· 反应过程中热量动态变化的有限元分析	第58-65页
· 模型的简化和假设	第58-59页
· 结构参数及边界条件	第59-61页
· 计算结果及分析	第61-65页
· 本章小结	第65-66页
结论	第66-67页
参考文献	第67-71页
攻读硕士学位期间发表的论文	第71-73页
致谢	第73 页

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