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低功耗多孔硅气敏传感器性能研究
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低功耗多孔硅气敏传感器性能研究
论文目录
 
摘要第1-4 页
ABSTRACT第4-9 页
第一章 气敏传感器与多孔硅材料第9-18 页
　　· 传感器的定义第9 页
　　· 气敏传感器第9-14 页
　　　　· 气敏传感器发展概述第9-10 页
　　　　· 气敏传感器的主要特性参数第10-12 页
　　　　· 气敏传感器的分类第12-13 页
　　　　· 气敏传感器检测的气体种类第13-14 页
　　· 多孔硅技术第14-17 页
　　　　· 多孔硅的分类第14-15 页
　　　　· 多孔硅材料的特点及应用第15-16 页
　　　　· 多孔硅气敏传感器研究概况第16-17 页
　　· 项目背景第17-18 页
第二章 理论知识第18-30 页
　　· 多孔硅的制备方法第18-20 页
　　　　· 原电池法第18 页
　　　　· 阳极腐蚀法第18-19 页
　　　　· 双槽电化学腐蚀法第19-20 页
　　· 多孔硅形成机理第20-22 页
　　　　· 扩散限制（DLA）模型第20-21 页
　　　　· Beale模型第21 页
　　　　· 量子限制模型第21-22 页
　　· 多孔硅气敏传感器工作原理第22-24 页
　　　　· 表面吸附第22-23 页
　　　　· 检测气体表面吸附反应第23-24 页
　　· 金属与半导体的欧姆接触第24-27 页
　　　　· 金属与半导体的功函数第24-26 页
　　　　· 肖特基接触第26 页
　　　　· 欧姆接触第26-27 页
　　· 磁控溅射淀积金属薄膜工作机理第27-28 页
　　· 场致发射扫描电子显微镜（SEM）技术第28-30 页
第三章 多孔硅气敏元件的制备第30-35 页
　　· 多孔硅敏感层的制备第30-32 页
　　　　· 硅片的清洗第30-31 页
　　　　· 腐蚀多孔硅敏感层第31-32 页
　　· 溅射形成薄膜电极第32-34 页
　　· 氧化处理第34-35 页
第四章 多孔硅参数测量与分析第35-45 页
　　· 样品条件设定第35 页
　　· 多孔硅孔隙率测量第35-38 页
　　　　· 孔隙率测量实验第35-36 页
　　　　· 多孔硅孔隙率参数分析第36-38 页
　　· 多孔硅微观形貌分析第38-41 页
　　　　· 多孔硅表面形貌分析第38-40 页
　　　　· 多孔硅截面形貌分析第40-41 页
　　· 多孔硅腐蚀厚度测量第41-43 页
　　· 多孔硅I-V特性曲线分析第43-45 页
第五章 多孔硅气敏传感器性能研究第45-63 页
　　· 气敏特性测量方法第45-48 页
　　　　· 小体积气体环境静态配气测量方法第45 页
　　　　· 大体积气体环境静态配气多通道测试系统第45-48 页
　　　　· 气体浓度测量范围选择第48 页
　　· 多孔硅气敏性能测试与分析第48-57 页
　　　　· 多孔硅对氨气的气敏性能分析第48-52 页
　　　　· 多孔硅对乙醇的气敏性能测试与分析第52-54 页
　　　　· 多孔硅对二氧化氮的气敏性能测试与分析第54-57 页
　　· 多孔硅气敏元件的选择性讨论第57 页
　　· 多孔硅孔隙率和腐蚀深度对灵敏度影响第57-59 页
　　　　· 孔隙率对灵敏度影响第57-58 页
　　　　· 腐蚀深度对灵敏度影响第58-59 页
　　· 响应时间与恢复时间的讨论第59-61 页
　　　　· 可逆反应与反应平衡第59 页
　　　　· 多孔硅结构参数对反应恢复时间影响第59-61 页
　　· 多孔硅气敏元件电极的选取第61-62 页
　　· 多孔硅气敏元件的工作损耗第62-63 页
第六章 结论与展望第63-65 页
　　· 总结与讨论第63-64 页
　　· 工作展望第64-65 页
参考文献第65-68 页
发表论文和参加科研情况说明第68-69 页
致谢第69 页

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