磁控溅射法制备氧化锌铝薄膜及其性能研究
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磁控溅射法制备氧化锌铝薄膜及其性能研究
论文目录
摘要
第1-6页
Abstract
第6-11页
第一章 绪论
第11-27页
· 太阳能电池
第11-13页
· 太阳能电池的工作原理
第11-13页
· 薄膜太阳能电池的发展
第13页
· 透明导电膜的概述
第13-14页
· 氧化物透明导电膜的分类、性质和制备
第14-15页
· ZnO透明导电薄膜及其掺杂体系ZAO膜的性质
第15-19页
· ZnO的晶体结构
第15-16页
· ZnO的能带结构
第16-17页
· ZnO材料的光电性能
第17-18页
· ZAO透明导电薄膜
第18页
· ZAO薄膜的性质
第18-19页
· ZAO磁控溅射靶材
第19-20页
· ZAO薄膜的制备方法及国内外的研究现状
第20-24页
· 溶胶-凝胶法
第20-21页
· 化学气相沉积法
第21页
· 脉冲激光沉积法
第21-22页
· 热喷涂沉积法
第22页
· 磁控溅射法
第22-24页
· 本研究的目的和意义
第24页
· 本论文的主要工作
第24-27页
第二章 实验原理与设备
第27-37页
· ZAO靶材实验原料及设备
第27页
· 实验原料
第27页
· 实验设备
第27页
· ZAO靶材中Al_2O_3的掺入量
第27-28页
· 靶材的成型与制作过程
第28-29页
· ZAO靶材性能表征
第29页
· 激光扫描共焦显微镜分析
第29页
· ZAO靶材密度和气孔率的测试
第29页
· ZAO靶材电阻率的测试
第29页
· 磁控溅射ZAO薄膜实验原理
第29-32页
· 磁控溅射工作原理
第29-31页
· 磁控溅射的温升原因及低温原理
第31-32页
· 实验设备及原料
第32-33页
· 实验仪器
第32-33页
· 实验原料
第33页
· 衬底的清洗
第33页
· ZAO薄膜制备
第33-34页
· 溅射工艺参数的选择
第33-34页
· 实验过程
第34页
· ZAO薄膜的性能表征
第34-37页
· ZAO薄膜厚度测试方法
第34-35页
· X射线衍射(XRD)分析
第35页
· 薄膜的紫外-可见光谱测试
第35页
· 扫描电镜(SEM)分析
第35页
· 薄膜电学性能测试
第35-37页
第三章 ZAO靶材的制备及其结果分析
第37-43页
· 烧结工艺对ZAO靶材结构的影响
第37-39页
· 烧结工艺对ZAO靶材密度的影响
第39-40页
· 烧结工艺对ZAO靶材电学性能影响
第40-41页
· 不同成型压力的影响
第41-42页
· 本章小结
第42-43页
第四章 ZAO薄膜制备及其性能研究
第43-53页
· 衬底温度对薄膜性能的影响
第43-46页
· 衬底温度对薄膜结构的影响
第43-45页
· 衬底温度对薄膜电学性能的影响
第45-46页
· 衬底温度对薄膜光学性能的影响
第46页
· 薄膜厚度对ZAO薄膜性能的影响
第46-48页
· 退火温度及退火时间对薄膜性能的影响
第48-52页
· 退火温度对薄膜结构的影响
第48-50页
· 退火温度对薄膜光电性能的影响
第50-51页
· 退火时间对薄膜光电性能的影响
第51-52页
· 本章小结
第52-53页
第五章 结论
第53-55页
参考文献
第55-59页
致谢
第59 页
本篇论文共
59
页,
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