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磁控溅射法制备氧化锌铝薄膜及其性能研究

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磁控溅射法制备氧化锌铝薄膜及其性能研究
论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-11页
第一章 绪论第11-27页
  · 太阳能电池第11-13页
    · 太阳能电池的工作原理第11-13页
    · 薄膜太阳能电池的发展第13页
  · 透明导电膜的概述第13-14页
  · 氧化物透明导电膜的分类、性质和制备第14-15页
  · ZnO透明导电薄膜及其掺杂体系ZAO膜的性质第15-19页
    · ZnO的晶体结构第15-16页
    · ZnO的能带结构第16-17页
    · ZnO材料的光电性能第17-18页
    · ZAO透明导电薄膜第18页
    · ZAO薄膜的性质第18-19页
  · ZAO磁控溅射靶材第19-20页
  · ZAO薄膜的制备方法及国内外的研究现状第20-24页
    · 溶胶-凝胶法第20-21页
    · 化学气相沉积法第21页
    · 脉冲激光沉积法第21-22页
    · 热喷涂沉积法第22页
    · 磁控溅射法第22-24页
  · 本研究的目的和意义第24页
  · 本论文的主要工作第24-27页
第二章 实验原理与设备第27-37页
  · ZAO靶材实验原料及设备第27页
    · 实验原料第27页
    · 实验设备第27页
  · ZAO靶材中Al_2O_3的掺入量第27-28页
  · 靶材的成型与制作过程第28-29页
  · ZAO靶材性能表征第29页
    · 激光扫描共焦显微镜分析第29页
    · ZAO靶材密度和气孔率的测试第29页
    · ZAO靶材电阻率的测试第29页
  · 磁控溅射ZAO薄膜实验原理第29-32页
    · 磁控溅射工作原理第29-31页
    · 磁控溅射的温升原因及低温原理第31-32页
  · 实验设备及原料第32-33页
    · 实验仪器第32-33页
    · 实验原料第33页
  · 衬底的清洗第33页
  · ZAO薄膜制备第33-34页
    · 溅射工艺参数的选择第33-34页
    · 实验过程第34页
  · ZAO薄膜的性能表征第34-37页
    · ZAO薄膜厚度测试方法第34-35页
    · X射线衍射(XRD)分析第35页
    · 薄膜的紫外-可见光谱测试第35页
    · 扫描电镜(SEM)分析第35页
    · 薄膜电学性能测试第35-37页
第三章 ZAO靶材的制备及其结果分析第37-43页
  · 烧结工艺对ZAO靶材结构的影响第37-39页
  · 烧结工艺对ZAO靶材密度的影响第39-40页
  · 烧结工艺对ZAO靶材电学性能影响第40-41页
  · 不同成型压力的影响第41-42页
  · 本章小结第42-43页
第四章 ZAO薄膜制备及其性能研究第43-53页
  · 衬底温度对薄膜性能的影响第43-46页
    · 衬底温度对薄膜结构的影响第43-45页
    · 衬底温度对薄膜电学性能的影响第45-46页
    · 衬底温度对薄膜光学性能的影响第46页
  · 薄膜厚度对ZAO薄膜性能的影响第46-48页
  · 退火温度及退火时间对薄膜性能的影响第48-52页
    · 退火温度对薄膜结构的影响第48-50页
    · 退火温度对薄膜光电性能的影响第50-51页
    · 退火时间对薄膜光电性能的影响第51-52页
  · 本章小结第52-53页
第五章 结论第53-55页
参考文献第55-59页
致谢第59 页

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