金属硫族化合物超薄纳米结构的控制合成及光电性能研究 |
论文目录 | | | 摘要 | 第1-10页 | | Abstract | 第10-13页 | | 本论文的主要创新点 | 第13-14页 | | 第一章 绪论 | 第14-36页 | | · 石墨烯及类石墨烯超薄纳米结构简介 | 第14-23页 | | · 石墨烯的结构与光电性质 | 第14-16页 | | · 金属二硫化物的超薄结构及光电性质 | 第16-18页 | | · 黑磷、硼烯、锑烯超薄结构及光电性质 | 第18-22页 | | · 过渡金属三硫化物的超薄结构及光电性质 | 第22-23页 | | · 常见的超薄结构材料的制备方法 | 第23-26页 | | · 机械剥离法 | 第23页 | | · 液相剥离法 | 第23-24页 | | · 离子插层剥离法 | 第24-25页 | | · 化学气相沉积法 | 第25-26页 | | · 超薄结构材料的非线性光学性能研究进展 | 第26-29页 | | · 超薄金属硫化物的三阶非线性光学研究 | 第26-27页 | | · 超薄材料在被动锁模中的应用 | 第27-29页 | | · 本论文主要研究内容 | 第29-30页 | | 参考文献 | 第30-36页 | | 第二章 SnS_2超薄结构的超声合成及光电探测器的构建 | 第36-47页 | | · 引言 | 第36-37页 | | · 实验部分 | 第37-38页 | | · SnS_2超薄结构制备与表征仪器 | 第37页 | | · SnS_2超薄结构光电探测器的构建与测试方法 | 第37-38页 | | · 结果与讨论 | 第38-43页 | | · SnS_2超薄结构材料的表征 | 第38-39页 | | · SnS_2超薄结构材料的生长控制 | 第39-41页 | | · 光电探测器的光响应 | 第41-43页 | | · 本章小结 | 第43-44页 | | 参考文献 | 第44-47页 | | 第三章 SnX_2 (X=S,Se)超薄纳米片的非线性光学吸收 | 第47-61页 | | · 引言 | 第47页 | | · 实验部分 | 第47-49页 | | · SnX_2 (X=S,Se)纳米片的制备过程 | 第48-49页 | | · SnX_2 (X=S,Se)纳米片的表征仪器 | 第49页 | | · 结果与讨论 | 第49-58页 | | · SnX_2 (X=S,Se)纳米片的表征 | 第49-53页 | | · Z扫描装置及非线性光学性能测试 | 第53-58页 | | · 本章小结 | 第58-59页 | | 参考文献 | 第59-61页 | | 第四章 ZrS_3超薄纳米片与石墨烯分散系的非线性光吸收和非线性光折射 | 第61-76页 | | · 引言 | 第61-62页 | | · 实验部分 | 第62-63页 | | · ZrS_3纳米片的制备 | 第62-63页 | | · ZrS_3纳米片的表征仪器 | 第63页 | | · 结果与讨论 | 第63-72页 | | · ZrS_3纳米片的表征 | 第63-66页 | | · ZrS_3纳米片与石墨烯分散系的非线性光学响应 | 第66-72页 | | · 本章小结 | 第72页 | | 参考文献 | 第72-76页 | | 第五章 ZrSe_3超薄纳米片的非线性吸收和光限幅研究 | 第76-86页 | | · 引言 | 第76页 | | · 实验部分 | 第76-77页 | | · ZrSe_3超薄纳米片的制备 | 第76-77页 | | · ZrSe_3超薄纳米片的表征仪器 | 第77页 | | · 结果与讨论 | 第77-84页 | | · ZrSe_3超薄纳米片的表征 | 第77-79页 | | · ZrSe_3超薄纳米片分散系的非线性光学响应 | 第79-84页 | | · 本章小结 | 第84页 | | 参考文献 | 第84-86页 | | 附录 | 第86-88页 | | 致谢 | 第88-89页 |
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