基于纳米压印技术的亚波长抗反射结构的工艺研究
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基于纳米压印技术的亚波长抗反射结构的工艺研究
论文目录
摘要
第1-7页
ABSTRACT
第7-11页
第一章 绪论
第11-22页
· 亚波长结构
第11-15页
· 亚波长结构的研究方法
第12-13页
· 亚波长结构的制造方法
第13-14页
· 亚波长抗反射结构的应用
第14-15页
· 纳米压印技术
第15-20页
· 紫外纳米压印的工艺过程
第16-17页
· 图形转移及聚合物流变
第17-18页
· 刻蚀技术
第18-20页
· 本文研究内容及总体结构
第20-22页
· 本文研究内容
第20页
· 本文总体结构
第20-22页
第二章 亚波长抗反射结构的设计
第22-40页
· 严格耦合波方法与等效媒质理论
第22-31页
· 严格耦合波分析法
第22-25页
· 等效媒质理论
第25-31页
· 单双台阶抗反射结构的设计
第31-33页
· 单台阶抗反射结构的设计
第32页
· 多台阶抗反射结构的设计
第32-33页
· 亚波长结构的软件模拟
第33-39页
· 等效媒质理论的有效性分析
第33-35页
· 亚波长浮雕结构的仿真
第35-37页
· 亚波长浮雕结构的优化设计
第37-39页
· 小结
第39-40页
第三章 纳米压印工艺的有限元分析
第40-62页
· 聚合物流变理论
第40-45页
· 聚合物流动控制方程及边界条件
第41-42页
· SUPG 计算方法
第42-44页
· 液体表面张力
第44-45页
· 纳米压印过程中聚合物填充机理的研究
第45-53页
· 聚合物填充物理模型
第45-46页
· 聚合物流变行为的仿真结果与分析
第46-51页
· 实验设计与验证
第51-53页
· 纳米压印过程中聚合物填充均匀性研究
第53-61页
· 聚合物填充均匀性物理模型建立
第54-55页
· 仿真结果与分析
第55-59页
· 实验设计
第59-61页
· 结论
第61-62页
第四章 亚波长抗反射结构的制备
第62-79页
· 模板的选择及工艺流程
第62-66页
· 模板的选择
第62-63页
· 基于纳米压印的工艺流程
第63-66页
· 单双台阶结构制备的工艺
第66-76页
· 基片表面处理
第66页
· 涂胶
第66-68页
· 压印曝光
第68-69页
· 反应离子刻蚀
第69-72页
· 制备实例
第72-76页
· 台阶结构的抗反射性能测量与对比
第76-78页
· 结论
第78-79页
第五章 结论与展望
第79-81页
· 本文主要结论
第79-80页
· 进一步的工作
第80-81页
参考文献
第81-86页
致谢
第86-87页
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文
第87页
本篇论文共
87
页,
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