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基于纳米压印技术的亚波长抗反射结构的工艺研究

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基于纳米压印技术的亚波长抗反射结构的工艺研究
论文目录
 
摘要第1-7页
ABSTRACT第7-11页
第一章 绪论第11-22页
  · 亚波长结构第11-15页
    · 亚波长结构的研究方法第12-13页
    · 亚波长结构的制造方法第13-14页
    · 亚波长抗反射结构的应用第14-15页
  · 纳米压印技术第15-20页
    · 紫外纳米压印的工艺过程第16-17页
    · 图形转移及聚合物流变第17-18页
    · 刻蚀技术第18-20页
  · 本文研究内容及总体结构第20-22页
    · 本文研究内容第20页
    · 本文总体结构第20-22页
第二章 亚波长抗反射结构的设计第22-40页
  · 严格耦合波方法与等效媒质理论第22-31页
    · 严格耦合波分析法第22-25页
    · 等效媒质理论第25-31页
  · 单双台阶抗反射结构的设计第31-33页
    · 单台阶抗反射结构的设计第32页
    · 多台阶抗反射结构的设计第32-33页
  · 亚波长结构的软件模拟第33-39页
    · 等效媒质理论的有效性分析第33-35页
    · 亚波长浮雕结构的仿真第35-37页
    · 亚波长浮雕结构的优化设计第37-39页
  · 小结第39-40页
第三章 纳米压印工艺的有限元分析第40-62页
  · 聚合物流变理论第40-45页
    · 聚合物流动控制方程及边界条件第41-42页
    · SUPG 计算方法第42-44页
    · 液体表面张力第44-45页
  · 纳米压印过程中聚合物填充机理的研究第45-53页
    · 聚合物填充物理模型第45-46页
    · 聚合物流变行为的仿真结果与分析第46-51页
    · 实验设计与验证第51-53页
  · 纳米压印过程中聚合物填充均匀性研究第53-61页
    · 聚合物填充均匀性物理模型建立第54-55页
    · 仿真结果与分析第55-59页
    · 实验设计第59-61页
  · 结论第61-62页
第四章 亚波长抗反射结构的制备第62-79页
  · 模板的选择及工艺流程第62-66页
    · 模板的选择第62-63页
    · 基于纳米压印的工艺流程第63-66页
  · 单双台阶结构制备的工艺第66-76页
    · 基片表面处理第66页
    · 涂胶第66-68页
    · 压印曝光第68-69页
    · 反应离子刻蚀第69-72页
    · 制备实例第72-76页
  · 台阶结构的抗反射性能测量与对比第76-78页
  · 结论第78-79页
第五章 结论与展望第79-81页
  · 本文主要结论第79-80页
  · 进一步的工作第80-81页
参考文献第81-86页
致谢第86-87页
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文第87页

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