印刷电路板蚀刻液电解再生的模拟和实验研究



印刷电路板蚀刻液电解再生的模拟和实验研究

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印刷电路板蚀刻液电解再生的模拟和实验研究

论文目录
摘要	第1-4页
Abstract	第4-8页
第1章文献综述	第8-20页
1.1 PCB的发展及PCB的生产工艺	第8-10页
1.1.1 PCB的发展现状	第8页
1.1.2 PCB的生产工艺	第8-10页
1.2 蚀刻液的发展	第10-11页
1.3 化学法再生蚀刻液和铜回收方法	第11-14页
1.3.1 化学法再生	第11-12页
1.3.2 化学法回收蚀刻液中的铜	第12-14页
1.4 电化学法再生蚀刻液和铜回收	第14-17页
1.4.1 常规电解法	第14-15页
1.4.2 隔膜电解法	第15-16页
1.4.3 离子膜电解法	第16-17页
1.5 电解槽及电解过程模拟	第17-19页
1.5.1 电解反应的流程计算	第17-18页
1.5.2 电解槽电场和流场的仿真	第18-19页
1.6 本文研究目标和工作	第19-20页
第2章酸性氯化铜蚀刻液电解再生和铜回收流程的计算和分析比较	第20-31页
2.1 电解再生流程的计算	第20-24页
2.1.1 电解再生工艺流程	第20-22页
2.1.2 物料守恒方程	第22-24页
2.2 参数及计算方法	第24-25页
2.3 结果讨论	第25-30页
2.3.1 不同蚀刻液处理量的计算结果	第25-27页
2.3.2 不同流程的析出氯气风险分析比较	第27-29页
2.3.3 不同流程的操作弹性分析比较	第29-30页
2.4 本章小结	第30-31页
第3章酸性氯化铜蚀刻液电解槽的电场和流场仿真	第31-47页
3.1 仿真区域	第31-35页
3.2 控制方程和边界条件	第35-36页
3.3 数值和计算方法	第36-38页
3.4 结果讨论	第38-45页
3.4.1 阴阳极电解槽流场的比较	第38-40页
3.4.2 增加二级流道对流场流速分布的影响	第40-41页
3.4.3 出口一级流道的厚度对流速分布的影响	第41-42页
3.4.4 增加缓冲区域对反应区域流场的影响	第42-43页
3.4.5 二级流道数目对流场的影响	第43页
3.4.6 电极的边缘效应对电场分布的影响	第43-44页
3.4.7 阴极表面沉积铜随时间的变化情况	第44-45页
3.5 本章小结	第45-47页
第4章酸性氯化铜蚀刻液电解再生小试和中试放大	第47-59页
4.1 实验试剂与仪器	第47-48页
4.2 铜离子浓度检测	第48-51页
4.2.1 一价铜离子浓度Cu(Ⅰ)检测	第48-49页
4.2.2 二价铜离子Cu(Ⅱ)浓度检测	第49-51页
4.3 电解再生小试	第51-55页
4.3.1 电解再生装置及操作方法	第51-54页
4.3.2 计算结果和仿真结果比较	第54-55页
4.4 电解再生装置的中试放大	第55-58页
4.4.1 电解再生中试装置的改进	第55页
4.4.2 中试电解实验操作	第55-57页
4.4.3 电解实验结果	第57-58页
4.5 本章小结	第58-59页
第5章结论	第59-61页
参考文献	第61-65页
发表论文和参加科研情况说明	第65-67页
致谢	第67-68页

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