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硅基微结构制作及其在X射线探测器研制中的应用研究
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硅基微结构制作及其在X射线探测器研制中的应用研究
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第一章 绪论第10-19页
　　1.1 X射线成像探测器研究进展第10-14页
　　　　1.1.1 X射线胶片成像第10-11页
　　　　1.1.2 X射线影像增强器成像第11页
　　　　1.1.3 计算机X射线成像第11-12页
　　　　1.1.4 数字X射线探测器成像第12-14页
　　1.2 CsI:Tl转换屏的研究进展第14-17页
　　1.3 本论文的研究内容及创新点第17-19页
　　　　1.3.1 本论文的研究内容第17-18页
　　　　1.3.2 本论文的创新点第18-19页
第二章 硅基深孔阵列的设计及制备第19-41页
　　2.1 高深宽比硅基微纳加工技术第19-20页
　　2.2 硅基电化学刻蚀深孔阵列形成机理第20-24页
　　　　2.2.1 Beale模型第21-22页
　　　　2.2.2 Unagami模型第22-23页
　　　　2.2.3 扩散机制模型第23-24页
　　　　2.2.4 电化学掏空模型第24页
　　2.3 光助电化学刻蚀工艺流程第24-28页
　　　　2.3.1 镀膜、光刻掩膜第25-26页
　　　　2.3.2 KOH溶液刻蚀硅基倒金字塔结构第26-27页
　　　　2.3.3 HF溶液刻蚀硅基深孔第27-28页
　　2.4 刻蚀实验结果分析第28-40页
　　　　2.4.1 刻蚀电压对刻蚀形貌的影响第29-32页
　　　　2.4.2 硅片电阻率对刻蚀形貌的影响第32-34页
　　　　2.4.3 表面活性剂（C2H5OH）对刻蚀形貌的影响第34-36页
　　　　2.4.4 其他刻蚀因素对刻蚀形貌的影响第36-38页
　　　　2.4.5 光助电化学刻蚀工艺相关成果第38-40页
　　2.5 本章小结第40-41页
第三章 硅基深孔阵列氧化与填充第41-51页
　　3.1 氧化工艺第41-46页
　　　　3.1.1 氧化工艺方法及实验步骤第41-45页
　　　　3.1.2 样品氧化后的测试及分析第45-46页
　　3.2 填充工艺第46-50页
　　　　3.2.1 填充工艺方法及实验步骤第46-48页
　　　　3.2.2 样品填充后的测试及分析第48-50页
　　3.3 本章小结第50-51页
第四章X射线探测器性能分析第51-62页
　　4.1 实验测定调制传递函数（MTF）和量子探测效率（DQE）第51-61页
　　4.2 本章小结第61-62页
第五章 总结与展望第62-64页
　　5.1 总结第62-63页
　　5.2 展望第63-64页
参考文献第64-68页
致谢第68页

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