特定气氛中的脉冲激光烧蚀及其在薄膜制备上的应用



特定气氛中的脉冲激光烧蚀及其在薄膜制备上的应用

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特定气氛中的脉冲激光烧蚀及其在薄膜制备上的应用

论文目录
摘要	第1-10 页
第一章序言	第10-15 页
· 脉冲激光烧蚀和沉积的发展背景	第10-11 页
· III 族氮化物	第11 页
· 硼碳氮系材料	第11-12 页
· 本文主要内容和结构	第12-13 页
参考文献	第13-15 页
第二章脉冲激光烧蚀和活性源辅助脉冲激光沉积方法	第15-25 页
· 脉冲激光烧蚀和脉冲激光沉积的基本特征	第15-17 页
· ECR 等离子体辅助脉冲激光沉积	第17-20 页
· ECR 等离子体	第17-18 页
· ECR 等离子体辅助脉冲激光沉积	第18-20 页
· 原子束辅助脉冲激光沉积	第20-22 页
· 辉光放电和弧光放电	第20-21 页
· 辉光放电原子束辅助脉冲激光沉积	第21-22 页
· 离子束辅助脉冲激光沉积	第22-24 页
参考文献	第24-25 页
第三章激光烧蚀铜等离子体的时空特征	第25-41 页
· 激光烧蚀等离子体的研究意义和诊断	第25-26 页
· 时空积分和分辨的等离子体光谱测量系统	第26-27 页
· 真空中铜等离子体光谱的时空特征	第27-30 页
· 等离子体连续谱	第27-28 页
· 离子和原子发射谱线	第28-29 页
· 离子和原子发射谱的时空特征	第29-30 页
· 非活性背景气体对铜等离子体光谱的的影响	第30-36 页
· 背景气体对等离子体光谱时间特征的影响	第30-32 页
· 背景气体对等离子体光谱空间特征的影响	第32-35 页
· 背景气体对等离子体发光粒子运动速度的影响	第35-36 页
· 脉冲激光烧蚀铜等离子体动力学	第36-38 页
· 小结	第38-39 页
参考文献	第39-41 页
第四章 III 族氮化物 AlN 和 GaN 薄膜的制备	第41-58 页
· 引言	第41-42 页
· 以烧结 AlN 和金属 Al 为靶材料制备 AlN 薄膜	第42-48 页
· 制备和表征方法	第42-43 页
· 实验结果和分析	第43-48 页
· 薄膜中杂质 O 的来源和 ECR-PLD 方法的优点	第48 页
· 氮化铝薄膜的光致发光	第48-50 页
· ECR-PLD 方法制备 GaN 薄膜	第50-55 页
· 制备和表征方法	第50-51 页
· 实验结果和分析	第51-54 页
· 关于 As 的讨论	第54-55 页
· 小结	第55 页
参考文献	第55-58 页
第五章 BC薄膜和BCN薄膜的制备	第58-72 页
· 引言	第58-59 页
· BC 薄膜	第59-63 页
· 制备和表征方法	第59 页
· 实验结果和分析	第59-63 页
· BCN 薄膜	第63-69 页
· 制备和表征方法	第63-64 页
· 实验结果和分析	第64-69 页
· 小结	第69-70 页
参考文献	第70-72 页
第六章 CNx薄膜的制备	第72-87 页
· 引言	第72-73 页
· ECR 等离子体辅助脉冲激光沉积 CNx 薄膜	第73-80 页
· 制备和表征方法	第73 页
· 薄膜的元素成分和化学结构	第73-76 页
· 衬底偏压的影响	第76-80 页
· 原子束辅助脉冲激光沉积制备 CNx 薄膜	第80-84 页
· 制备和表征方法	第80-81 页
· 实验结果和分析	第81-83 页
· 关于晶态的讨论	第83-84 页
· 小结	第84 页
参考文献	第84-87 页
第七章总结	第87-89 页
后记	第89-92 页

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