论文目录 | |
| 第一章 超硬纳米多层膜和复合膜的研究综述 | 第1-32
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| · 引言 | 第8-9
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| · 纳米多层膜 | 第9-13
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| · 金属／氮化物(碳化物,硼化物等)多层膜 | 第9-10
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| · 氮化物／氮化物多层膜 | 第10-13
页 |
| · 纳米复合膜 | 第13-17
页 |
| · 超硬薄膜的致硬机理和设计 | 第17-25
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| · 超硬薄膜的致硬机理 | 第17-23
页 |
| · 超硬纳米复合膜的设计思想 | 第23-25
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| · 本文研究的目的、意义及内容 | 第25-27
页 |
| 参考文献 | 第27-32
页 |
| 第二章 磁控溅射制备Ti／TiN和CrN／SiNx纳米多层膜及表征 | 第32-55
页 |
| · 磁控溅射沉积Ti／TiN和CrN／SiNx纳米多层 | 第32-34
页 |
| · Ti／TiN和CrN／SiNx多层膜样品的表征 | 第34-38
页 |
| · X射线衍射技术(XRD) | 第34-35
页 |
| · 掠入射X射线反射(GIXRR) | 第35-36
页 |
| · 原子力显微镜(AFM) | 第36-37
页 |
| · 纳米压痕仪 | 第37-38
页 |
| · 纳米多层膜调制周期和沉积率的测定及界面宽度的估计公式 | 第38-45
页 |
| · 纳米多层膜调制周期计算方法及界面宽度的估计公式 | 第38-40
页 |
| · CrN、SiNx和TiN沉积率的确定 | 第40-45
页 |
| · 非理想多层膜界面宽度及粗糙度对XRR谱的影响 | 第45-53
页 |
| · 界面粗糙度 | 第46-48
页 |
| · 界面宽度(过渡区) | 第48-51
页 |
| · 层厚漂移 | 第51-53
页 |
| 参考文献 | 第53-55
页 |
| 第三章 沉积条件对Ti／TiN多层膜微观结构、界面结构和硬度的影响及其热稳定性 | 第55-92
页 |
| · 引言 | 第55-56
页 |
| · 溅射压强对Ti／TiN纳米多层膜的影响 | 第56-63
页 |
| · 衬底偏压对Ti／TiN多层膜的影响 | 第63-69
页 |
| · 衬底温度对Ti／TiN多层膜的影响 | 第69-76
页 |
| · Ti／TiN多层膜的热稳定性 | 第76-85
页 |
| · Ti／TiN多层膜热稳定性的改善 | 第85-87
页 |
| · 本章小结 | 第87-89
页 |
| 参考文献 | 第89-92
页 |
| 第四章 沉积条件对CrN／SiNx多层膜微观结构、界面结构和硬度的影响及其热稳定性 | 第92-125
页 |
| · 引言 | 第92-93
页 |
| · 溅射压强对CrN／SiNx纳米多层膜的影响 | 第93-100
页 |
| · 衬底偏压对CrN／SiNx多层膜的影响 | 第100-106
页 |
| · 衬底温度对CrN／SiNx多层膜的影响 | 第106-111
页 |
| · CrN／SiNx多层膜的界面融混情况 | 第111-115
页 |
| · CrN／SiNx多层膜的热稳定性研究 | 第115-121
页 |
| · 本章小结 | 第121-122
页 |
| 参考文献 | 第122-125
页 |
| 第五章 本文结论 | 第125-128
页 |
| 致谢 | 第128-129
页 |
| 发表文章 | 第129-130
页 |
| 摘要 | 第130-136
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| Abstract | 第136-143
页 |
