论文目录 | |
| 第一章 引言 | 第13-43
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| · 研究背景 | 第13-18
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| · 多孔(超)低介电常数材料简介 | 第18-22
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| · 多孔介质的基本概念 | 第18-19
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| · 多孔(超)低k介质分类与结构性质 | 第19-21
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| · 多孔(超)低k介质的制备技术 | 第21-22
页 |
| · SiCOH多孔(超)低k材料研究的主要进展 | 第22-34
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| · SiCOH多孔(超)低k材料的加工技术 | 第23-24
页 |
| · SiCOH多孔(超)低k材料的结构与成份 | 第24-27
页 |
| · SiCOH多孔(超)低k材料的物性 | 第27-29
页 |
| · SiCOH多孔(超)低k材料的微结构表征 | 第29-34
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| · 存在的主要问题 | 第34-36
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| · 本文的主要研究内容 | 第36-38
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| 参考文献 | 第38-43
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| 第二章 SiCOH低k薄膜的制备与表征方法 | 第43-59
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| · SiCOH薄膜的制备方法 | 第43-48
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| · 电子回旋共振(ECR)等离子体形成的基本原理 | 第43-44
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| · 微波ECR-CVD装置与实验技术 | 第44-46
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| · 实验方案与工艺参数 | 第46-48
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| · SiCOH薄膜结构与性能的表征方法 | 第48-54
页 |
| · 薄膜键结构的傅立叶变换红外光谱(FTIR)分析 | 第48-50
页 |
| · 薄膜成份的X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第50-51
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| · 薄膜孔隙率的椭偏法分析(EP) | 第51-52
页 |
| · 介电性能的分析测试方法 | 第52-54
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| · 电学性能的分析测试方法 | 第54
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| · 放电等离子体的发射光谱分析 | 第54-57
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| · 等离子体发射光谱的产生机理 | 第54-55
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| · 相对辐射测量的定义 | 第55
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| · 放电等离子体中基团浓度的定量测量 | 第55
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| · DMCPS及CH_4、CHF_3、O_2掺杂的气体放电等离子体发射光谱的测量方法 | 第55-57
页 |
| 参考文献 | 第57-59
页 |
| 第三章 基于孔隙的SiCOH低k薄膜的结构性能 | 第59-75
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| · 十甲基环五硅氧烷(DMCPS)沉积的SiCOH薄膜键结构性能 | 第59-68
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| · SiCOH薄膜键结构的红外光谱分析 | 第59-63
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| · SiCOH薄膜中孔隙的来源与结构特征 | 第63-65
页 |
| · SiCOH薄膜中Si-OH结构的起源与控制 | 第65-68
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| · O_2掺杂的SiCOH薄膜键结构性能 | 第68-72
页 |
| · O_2掺杂的SiCOH薄膜结构的红外光谱分析 | 第68-70
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| · O_2掺杂SiCOH薄膜的孔隙特征 | 第70-72
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| · 本章小结 | 第72-73
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| 参考文献 | 第73-75
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| 第四章 基于弱极性键与孔隙结合的SiCOH低k薄膜的结构性能 | 第75-95
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| · CHF_3掺杂SiCOH薄膜的结构分析 | 第75-88
页 |
| · CHF_3掺杂SiCOH薄膜结构的红外分析 | 第75-80
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| · CHF_3掺杂SiCOH薄膜结构的成份分析 | 第80-81
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| · CHF_3掺杂SiCOH薄膜键态的XPS分析 | 第81-86
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| · CHF_3掺杂SiCOH薄膜的孔隙特征 | 第86-88
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| · CHF_3掺杂SiCOH薄膜的弱极化键形成 | 第88
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| · CH_4掺杂SiCOH薄膜的结构分析 | 第88-92
页 |
| · CH_4掺杂SiCOH薄膜结构的红外分析 | 第88-90
页 |
| · CH_4掺杂SiCOH薄膜的孔隙特征 | 第90
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| · CH_4掺杂SiCOH薄膜的弱极化键形成 | 第90-92
页 |
| · 本章小结 | 第92-93
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| 参考文献 | 第93-95
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| 第五章 SiCOH薄膜的介电性能 | 第95-111
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| · 多孔(超)低k材料的电介质物理基础 | 第95-99
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| · 介质极化来源的微观机制 | 第95-97
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| · 多孔介质极化起源 | 第97-99
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| · 基于孔隙的SiCOH薄膜的介电与电学性能 | 第99-105
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| · SiCOH薄膜的介电常数 | 第99-102
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| · SiCOH薄膜的低频介电色散 | 第102-103
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| · SiCOH薄膜的漏电流与击穿场强 | 第103-105
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| · 基于弱极性键与孔隙相结合的SiCOH薄膜的介电性能 | 第105-107
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| · CHF_3掺杂对SiCOH薄膜的介电性能的影响 | 第105-106
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| · CH_4掺杂对SiCOH薄膜的介电性能的影响 | 第106-107
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| · 本章小结 | 第107-109
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| 参考文献 | 第109-111
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| 第六章 SiCOH薄膜结构与放电等离子体间的关联 | 第111-135
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| · DMCPS的ECR放电等离子体发射光谱分析 | 第111-121
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| · DMCPS的ECR放电等离子体发射光谱 | 第111-118
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| · DMCPS的ECR放电等离子体化学反应 | 第118-120
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| · DMCPS的ECR放电等离子体与SiCOH薄膜结构的关联 | 第120-121
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| · O_2／DMCPS的ECR放电等离子体发射光谱分析 | 第121-123
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| · O_2／DMCPS的ECR放电等离子体发射光谱 | 第121-122
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| · O_2／DMCPS等离子体中活性基团随O_2流量的变化关系 | 第122-123
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| · CHF_3／DMCPS的ECR放电等离子体发射光谱分析 | 第123-130
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| · CHF_3／DMCPS的ECR放电等离子体发射光谱 | 第123-128
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| · F掺杂薄膜生长的放电等离子体关联 | 第128-130
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| · CH_4／DMCPS的ECR放电等离子体发射光谱分析 | 第130-132
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| · CH_4／DMCPS的ECR放电等离子体发射光谱 | 第130-131
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| · CH_4／DMCPS等离子体中活性基团随CH_4流量的变化关系 | 第131-132
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| · 本章小结 | 第132-133
页 |
| 参考文献 | 第133-135
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| 第七章 结论 | 第135-140
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| · 结论 | 第135-137
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| · 存在的问题及今后的研究方向 | 第137-140
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| · 存在的问题 | 第137-138
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| · 今后的研究方向 | 第138-140
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| 创新性说明 | 第140-141
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| 攻读博士学位期间发表论文、获奖与项目鉴定目录 | 第141-144
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| 附录一：SiCOH及F、CH掺杂薄膜键结构的FTIR谱峰识别 | 第144-153
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| 附录二：SiCOH及F、CH掺杂薄膜结构XPS分析的谱峰识别 | 第153-158
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| 附录三：激发基团发射光谱特征谱线表 | 第158-167
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| 致谢 | 第167-168
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| 中文详细摘要 | 第168-178
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