论文目录 | |
| 第一章 绪论 | 第18-27
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| §1．1 研究背景 | 第18-25
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| 1．1．1 引言 | 第18-19
页 |
| 1．1．2 光刻技术的发展历程及现状 | 第19-25
页 |
| §1．2 研究目的 | 第25
页 |
| §1．3 论文的构成 | 第25
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| 参考文献 | 第25-27
页 |
| 第二章 极紫外投影光刻（EUVL）中的关键技术 | 第27-47
页 |
| §2．1 引言 | 第27
页 |
| §2．2 EUVL中的关键技术 | 第27-43
页 |
| 2．2．1 极紫外（EUV）光源技术 | 第27-33
页 |
| 2．2．2 微缩投影光学系统 | 第33-34
页 |
| 2．2．3 掩模照明光学系统 | 第34-36
页 |
| 2．2．4 光学加工与检测技术 | 第36-39
页 |
| 2．2．5 EUV多层膜技术 | 第39-40
页 |
| 2．2．6 反射式掩模技术 | 第40-41
页 |
| 2．2．7 抗蚀剂技术 | 第41-42
页 |
| 2．2．8 精密工件台技术 | 第42-43
页 |
| §2．3 小结 | 第43-44
页 |
| 参考文献 | 第44-47
页 |
| 第三章 EUVL原理装置的设计 | 第47-71
页 |
| §3．1 引言 | 第47-48
页 |
| §3．2 Schwarzschild微缩投影物镜 | 第48-59
页 |
| 3．2．1 Schwarzschild微缩投影物镜的光学设计 | 第48-53
页 |
| 3．2．2 Schwarzschild微缩投影物镜偏心及镜间距公差 | 第53-59
页 |
| 3．2．3 Schwarzschild微缩投影物镜的机械结构设计 | 第59
页 |
| §3．3 掩模和硅片精密工作台的设计 | 第59-62
页 |
| §3．4 EUV光源和掩模照明光学系统 | 第62-69
页 |
| 3．4．1 激光等离子体（LPP）光源的设计 | 第62-65
页 |
| 3．4．2 掩模照明光学系统设计 | 第65-69
页 |
| §3．5 小结 | 第69-70
页 |
| 参考文献 | 第70-71
页 |
| 第四章 微缩投影物镜的多层膜反射镜性能评价 | 第71-92
页 |
| §4．1 引言 | 第71
页 |
| §4．2 多层膜反射镜基底加工精度的影响 | 第71-85
页 |
| 4．2．1 面形精度的影响 | 第72-76
页 |
| 4．2．2 中频波纹度的影响 | 第76-85
页 |
| §4．3 EUV多层膜设计与制备 | 第85-90
页 |
| §4．4 小结 | 第90-91
页 |
| 参考文献 | 第91-92
页 |
| 第五章 EUVL原理装置的集成 | 第92-112
页 |
| §5．1 引言 | 第92
页 |
| §5．2 Schwarzschild微缩投影物镜的光学装调 | 第92-109
页 |
| 5．2．1 光学装调精度要求 | 第92
页 |
| 5．2．2 光学装调步骤 | 第92-93
页 |
| 5．2．3 Schwarzschild微缩投影物镜的光学粗装调 | 第93-96
页 |
| 5．2．4 Schwarzschild微缩投影物镜计算机辅助装调的步骤 | 第96-98
页 |
| 5．2．5 EUVL微缩投影光学系统计算机辅助装调的数学模型 | 第98-101
页 |
| 5．2．6 Schwarzschild微缩投影物镜的计算机辅助装调 | 第101-109
页 |
| §5．3 LPP光源及掩模照明系统的装调 | 第109-110
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| 5．3．1 EUVL原理装置的组成 | 第109-110
页 |
| 5．3．2 LPP光源及掩模照明系统的装调步骤 | 第110
页 |
| §5．4 小结 | 第110-111
页 |
| 参考文献 | 第111-112
页 |
| 第六章 EUV掩模复制曝光实验 | 第112-119
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| §6．1 引言 | 第112
页 |
| §6．2 EUVL用抗蚀剂的选择 | 第112-114
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| 6．2．1 EUV抗蚀剂的作用原理及通用性 | 第112
页 |
| 6．2．2 ZEP520正性抗蚀剂 | 第112-114
页 |
| §6．3 EUVL透射掩模 | 第114-115
页 |
| §6．4 曝光实验方法及结果 | 第115-118
页 |
| §6．5 小结 | 第118
页 |
| 参考文献 | 第118-119
页 |
| 第七章 EUV多层膜膜厚空间分布控制技术 | 第119-126
页 |
| §7．1 引言 | 第119-120
页 |
| §7．2 EUV多层膜膜厚空间分布控制原理 | 第120-122
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| 7．2．1 磁控溅射原理 | 第120
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| 7．2．2 磁控溅射工艺的膜厚空间分布 | 第120-121
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| 7．2．3 多层膜膜厚空间分布的控制方法 | 第121-122
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| §7．3 磁控溅射镀膜装置的研制和均匀多层膜的制备 | 第122-124
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| 7．3．1 磁控溅射镀膜装置的研制 | 第122-123
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| 7．3．2 均匀多层膜的制备 | 第123-124
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| §7．3 小结 | 第124-125
页 |
| 参考文献 | 第125-126
页 |
| 第八章 结束语 | 第126-128
页 |
| §8．1 本文研究工作的主要进展 | 第126-127
页 |
| §8．2 研究工作展望 | 第127-128
页 |
| 作者简历 | 第128-129
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| 攻读博士学位期间发表的学术论文目录 | 第129
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