MEMS封装中的残余应力演化及其相关可靠性研究
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MEMS封装中的残余应力演化及其相关可靠性研究
论文目录
中文摘要
第1-10 页
引言
第10-13 页
第一章 电子封装所致残余应力研究进展
第13-31 页
1.1 适于MEMS微系统的先进封装技术简述
第13-16 页
1.1.1 芯片尺寸封装CSP
第14 页
1.1.2 多芯片组件MCM
第14-15 页
1.1.3 板上芯片封装
第15-16 页
1.2 封装所致应力的分类及其重要性
第16-17 页
1.3 封装残余应力的研究
第17-26 页
1.3.1 压阻效应
第17-20 页
1.3.2 硅压阻芯片的制作
第20-21 页
1.3.3 硅压阻芯片的标定
第21-23 页
1.3.4 基于(111)硅片的压阻理论
第23-26 页
参考文献
第26-31 页
第二章 实验样品准备和实验设计
第31-46 页
2.1 实验设计
第32-35 页
2.2 实验装置
第35-38 页
2.3 相关材料的物理参数
第38-42 页
2.4 相关的应力计算公式
第42-45 页
参考文献
第45-46 页
第三章 板上芯片封装所致应力的研究
第46-67 页
3.1 基板衬底类型对残余应力的影响
第46-54 页
3.1.1 FR4基板上粘合剂固化过程中芯片的应力变化
第48-50 页
3.1.2 Al_2O_3陶瓷基板上的粘合剂固化过程的应力变化
第50-52 页
3.1.3 不同基板上残余应力分布的比较
第52-53 页
3.1.4 小结
第53-54 页
3.2 粘合剂对板上芯片表面残余应力的影响
第54-59 页
3.2.1 固化过程中的应力演化
第55-58 页
3.2.2 不同粘合剂引起的残余应力分布比较
第58 页
3.2.3 小结
第58-59 页
3.3 板上芯片封装中芯片在基板不同位置的残余应力研究
第59-66 页
3.3.1 不同位置的残余应力分布
第60-62 页
3.3.2 固化和热处理过程中残余应力的演化
第62-65 页
3.3.3 小结
第65-66 页
参考文献
第66-67 页
第四章 热处理过程中芯片表面残余应力的演化
第67-82 页
4.1 固化过程中典型位置残余应力的演化
第67-72 页
4.2 再固化过程中芯片表面残余应力的演化
第72-74 页
4.3 在空气中储存20天后热处理时芯片表面残余应力的演化
第74-76 页
4.4 有机粘合剂的热分析
第76-80 页
4.5 小结
第80-81 页
参考文献
第81-82 页
第五章 板上芯片封装应力的有限元分析
第82-97 页
5.1 板上芯片封装结构的有限元模型
第82-83 页
5.2 有限元模拟结果
第83-95 页
5.2.1 芯片在基板的不同粘贴位置时残余应力的分布
第83-89 页
5.2.2 基板的厚度对残余应力的影响
第89-90 页
5.2.3 粘合胶的厚度对残余应力的影响
第90-91 页
5.2.4 与实验的比较
第91-95 页
5.3 小结
第95-96 页
参考文献
第96-97 页
第六章 全文结论
第97-100 页
致谢
第100-101 页
发表论文
第101-102 页
个人简介
第102 页
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102
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