软X射线自支撑闪耀透射光栅的制作



软X射线自支撑闪耀透射光栅的制作

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软X射线自支撑闪耀透射光栅的制作

论文目录
摘要	第1-7页
Abstract	第7-12页
第一章绪论	第12-22页
· 引言	第12页
· 自支撑闪耀透射光栅	第12-16页
· 工作原理	第13-14页
· 特点	第14页
· MIT的研究进展	第14-16页
· 单晶硅各向异性湿法刻蚀制作闪耀透射光栅	第16-21页
· (110)单晶硅的性质及特点	第16-17页
· SOI硅片	第17页
· 制作方法简介	第17-21页
· 选题意义与内容安排	第21-22页
第二章闪耀透射光栅的基本理论	第22-36页
· 引言	第22页
· 基本原理	第22-23页
· 严格耦合波分析	第23-27页
· TE偏振光	第24-27页
· TM偏振光	第27页
· 光栅参数设计	第27-33页
· 根据基本原理确定光栅参数	第27-29页
· 衍射效率模拟结果与讨论	第29-33页
· 本章小结	第33-36页
第三章单晶硅各向异性湿法刻蚀	第36-48页
· 引言	第36页
· 腐蚀剂	第36-37页
· 腐蚀机理	第37-38页
· 湿法刻蚀光栅制作工艺	第38-47页
· 湿法刻蚀光栅模型	第38-40页
· 影响光栅质量的主要因素	第40-47页
· 本章小结	第47-48页
第四章晶向对准	第48-64页
· 引言	第48-49页
· 晶向标定	第49-55页
· 原理	第50-51页
· 工艺	第51-52页
· 实验结果讨论	第52-55页
· 标定晶向与低线密度参考光栅的对准	第55-58页
· 高线密度参考光栅与全息光刻干涉条纹对准	第58-61页
· 原理-莫尔条纹	第58-59页
· 对准过程	第59-60页
· 误差分析	第60-61页
· 低线密度参考光栅与高线密度参考光栅对准	第61-62页
· 实验结果	第62-63页
· 本章小结	第63-64页
第五章增大光栅掩模占宽比	第64-76页
· 引言	第64页
· lift-off工艺	第64-70页
· 氯苯浸泡	第65-67页
· lift-off光刻胶	第67-68页
· 驻波效应	第68-70页
· 倾斜镀膜法	第70-75页
· 离子束溅射镀膜	第71-72页
· 真空蒸发镀膜	第72-75页
· 本章小结	第75-76页
第六章自支撑闪耀透射光栅的制作	第76-90页
· 引言	第76页
· SOI基片及检测	第76-77页
· 光栅制作工艺流程	第77-79页
· 实验结果及讨论	第79-89页
· 自支撑结构掩模制备	第81-83页
· 光栅掩模制备	第83-85页
· 衬底的去除	第85-86页
· 湿法刻蚀	第86-87页
· 超临界干燥	第87-89页
· 本章小结	第89-90页
第七章闪耀透射光栅的效率测量	第90-96页
· 引言	第90页
· 测量方法	第90-92页
· 测量装置	第90-91页
· 测量光路及方法	第91-92页
· 测量结果及分析	第92-95页
· 本章小结	第95-96页
第八章总结与展望	第96-98页
· 论文的工作总结	第96-97页
· 论文的主要创新点	第97页
· 展望	第97-98页
参考文献	第98-110页
作者攻读博士学位期间发表的论文	第110-112页
致谢	第112 页

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