纳米级电路分辨率增强技术及可制造性设计研究



纳米级电路分辨率增强技术及可制造性设计研究

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纳米级电路分辨率增强技术及可制造性设计研究

论文目录
致谢	第1-7页
摘要	第7-9页
Abstract	第9-18页
第1章绪论	第18-34页
· 引言	第18-19页
· 集成电路生产过程其挑战	第19-22页
· 分辨率增强技术	第22-28页
· 移相掩模技术	第23-25页
· 离轴照明技术	第25-27页
· 散射条插入技术	第27-28页
· 可制造性设计	第28-30页
· 论文创新点及论文结构	第30-32页
· 本章小结	第32-34页
第2章相关分辨率增强技术及可制造性技术	第34-48页
· 引言	第34页
· 光学邻近校正技术	第34-40页
· 基于规则的光学邻近校正技术	第34-36页
· 基于模型的光学邻近校正技术	第36-40页
· 其他光学邻近校正技术	第40页
· 反向光刻技术	第40-45页
· 正向纯光学模型	第41-43页
· 正向光刻胶模型	第43-44页
· 反向光刻问题的数学描述	第44-45页
· 可制造性设计技术	第45-46页
· 本章小结	第46-48页
第3章改进后的光学邻近校正技术	第48-78页
· 引言	第48页
· 光学邻近校正技术中的动态自适应切分技术	第48-63页
· 现有边切分技术的困境及改进方向	第48-50页
· 动态自适应切分算法	第50-56页
· 实验结果及讨论	第56-63页
· 带有映射模型的光学邻近校正技术	第63-77页
· 校正线段与光强校正点的映射问题	第63-64页
· 校正线段与光强校正点映射模型的推导	第64-70页
· 映射模型计算及应用的加速方法	第70-73页
· 映射模型在光学邻近校正中的应用及实验	第73-74页
· 实验结果及讨论	第74-77页
· 本章小结	第77-78页
第4章热点感知反向光刻技术和并行反向光刻技术	第78-102页
· 引言	第78-79页
· 热点感知的反向光刻技术	第79-88页
· 热点位置的确定	第80-82页
· 纹波传递效应的消除	第82-84页
· 热点感知的反向光刻技术流程	第84-85页
· 实验结果及讨论	第85-88页
· 面向无缝拼接的并行反向光刻技术	第88-101页
· 传统并行反向光刻技术及分析	第88-92页
· 面向无缝拼接的反向光刻技术	第92-95页
· 实验结果及讨论	第95-101页
· 本章小结	第101-102页
第5章基于卷积核的可制造性模型及建模	第102-114页
· 引言	第102-103页
· 可制造性模型的数学描述	第103-105页
· 可制造性模型的建模方法	第105-107页
· 可制造性模型有关问题的讨论	第107-109页
· 实验结果及讨论	第109-113页
· 本章小结	第113-114页
第6章论文总结及工作展望	第114-118页
· 论文总结	第114-115页
· 工作展望	第115-118页
参考文献	第118-127页
附录	第127-129页
作者简历及在学期间所取得的科研成果	第129-130 页

本篇论文共130页，点击这进入下载页面。

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