曲面激光直写中若干关键技术研究



曲面激光直写中若干关键技术研究

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曲面激光直写中若干关键技术研究

论文目录
致谢	第1-8页
摘要	第8-11页
Abstract	第11-18页
1 绪论	第18-69页
· 微光学器件及其制作技术的发展现状	第18-42页
· 微光学元件(MOEs)及MOMES简介	第18-23页
· 常见的MOEs及MOMES制作技术介绍	第23-42页
· 激光直写技术	第42-54页
· 激光直写技术简介	第42-44页
· 传统平面激光直写系统分类	第44-54页
· 本论文的研究背景	第54-58页
· 本论文主要研究内容简介	第58-61页
参考文献	第61-69页
2 恒姿态曲面激光直写系统的设计与实现	第69-97页
· 恒姿态曲面激光直写系统的总体介绍	第71-89页
· 一维线性X轴导轨和光学平台子系统	第74-78页
· 工件夹持台、二维线性XY轴导轨和转台子系统	第78-82页
· 光刻头及调焦、对中子系统	第82-83页
· 系统控制结构、电气实现及下位机接口子系统	第83-85页
· 人机UI上位机控制软件子系统	第85-87页
· 刻蚀加工子系统	第87-89页
· 系统调焦过程的理论几何模型简析	第89-91页
· 恒姿态曲面激光直写系统的加工过程	第91-95页
· 本章小结	第95-96页
参考文献	第96-97页
3 曲面旋涂甩胶的数学模型和实验研究	第97-120页
· 平面甩胶理论研究	第100-103页
· 凸面甩胶技术研究	第103-117页
· 凸面旋涂甩胶的胶厚分布数学模型	第104-106页
· 凸面旋涂甩胶的胶厚分布数学模型的实验研究	第106-112页
· 凸面旋涂甩胶的胶厚分布均匀性实验研究	第112-116页
· 凸面旋涂甩胶过程中的工艺参数最优化设计	第116-117页
· 本章小结	第117-119页
参考文献	第119-120页
4 曲面旋涂甩胶的胶厚及分布检测技术研究	第120-149页
· 基于双干涉条纹数字波面处理的凸面胶厚测量理论	第122-132页
· 理论分析	第122-129页
· 测量光束入射角的最优化选择	第129-132页
· 基于透射式多光谱法的胶厚测量研究	第132-145页
· 透射式双光谱法的平面均匀胶厚测量	第132-137页
· 基于透射式多光谱法的凸面基片上胶厚分布逐点测量	第137-141页
· 基于透射式连续光谱法的凸面基片上胶厚分布全场测量	第141-145页
· 本章小结	第145-147页
参考文献	第147-149页
5 曲面激光直写光刻的曝光数学模型与实验研究	第149-179页
· 薄层光刻胶平面基片上的Dill曝光理论模型	第150-154页
· 薄层正性光刻胶的凸面激光直写光刻理论与实验研究	第154-175页
· 恒姿态曲面激光直写系统中的光场分布	第156-161页
· 凸面激光直写光刻过程中凸面基片的斜面逐点等效模型	第161-163页
· 凸面激光直写光刻过程中的修正Dill曝光模型	第163-164页
· 凸面激光直写的线宽和曝光深度模型	第164-168页
· 凸面激光直写光刻线条的不对称性分析	第168-173页
· 薄层正性光刻胶的凸面直写光刻实验结果分析与误差讨论	第173-175页
· 本章小结	第175-177页
参考文献	第177-179页
6 恒姿态曲面激光直写系统的性能分析和初步应用	第179-189页
· 恒姿态曲面激光直写系统光刻性能指标的理论简析	第180-184页
· 恒姿态曲面激光直写系统的初步应用研究	第184-188页
· 本章小结	第188-189页
7 总结与展望	第189-193页
· 论文回顾与总结	第189-191页
· 对未来的展望	第191-193页
附录A	第193-196页
附录B	第196-197页
攻读学位期间发表的学术成果	第197 页

本篇论文共197页，点击这进入下载页面。

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