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电沉积铜薄膜中织构与内应力的研究

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电沉积铜薄膜中织构与内应力的研究
论文目录
 
摘要第1-5 页
ABSTRACT第5-11 页
第1章 绪论第11-39 页
  · 铜的电沉积原理第11-13 页
    · 电沉积的基本历程第12 页
    · 铜电沉积的电极反应第12-13 页
  · 电沉积铜薄膜的制备工艺第13-16 页
    · 硫酸盐镀铜第13-14 页
    · 氰化物碱性镀铜第14 页
    · 无氰镀铜第14-16 页
  · 电沉积铜薄膜的组织结构与性能第16-20 页
    · 电沉积铜薄膜的组织结构第16-18 页
    · 电沉积铜薄膜的性能第18-20 页
  · 薄膜中织构及其表征第20-27 页
    · 电沉积铜薄膜中的织构第20 页
    · 电沉积薄膜择优取向理论第20-23 页
    · 薄膜织构测量方法第23-27 页
  · 薄膜中内应力及其表征第27-33 页
    · 电沉积铜薄膜中的内应力第27-28 页
    · 电沉积薄膜内应力理论第28-29 页
    · 薄膜内应力测定方法第29-33 页
  · 选题意义及研究内容第33-34 页
  参考文献第34-39 页
第2章 材料及实验方法第39-53 页
  · 材料制备及处理工艺第39-43 页
    · 镀液组成第39-40 页
    · 基底材料第40-43 页
    · 超声波电沉积第43 页
    · 后序低温处理第43 页
  · 实验方法第43-46 页
    · 形貌观察第43 页
    · X射线衍射第43 页
    · 织构测量第43-44 页
    · 应力测定第44 页
    · 电化学测试第44 页
    · 力学性能测量第44-46 页
  · 电沉积铜薄膜自回火时间第46-51 页
  参考文献第51-53 页
第3章 电沉积铜薄膜中的织构第53-88 页
  · 铜薄膜织构的XRD表征第53-56 页
  · 电流密度和薄膜厚度对薄膜织构的影响第56-72 页
    · 电流密度的影响第56-61 页
    · 薄膜厚度的影响第61-64 页
    · 铜薄膜电结晶初期的行为第64-72 页
  · 添加剂对电沉积铜薄膜织构的影响第72-80 页
    · 稀土铈盐第72-76 页
    · 聚乙二醇(PEG)第76-78 页
    · 乙二胺四乙酸二钠(EDTA)第78-80 页
  · 超声波电沉积工艺对铜薄膜织构的影响第80-83 页
  · 织构与薄膜的各向异性第83-85 页
  · 本章小结第85-86 页
  参考文献第86-88 页
第4章 铜薄膜X射线弹性常数计算第88-114 页
  · 多晶材料弹性常数及X射线弹性常数计算第88-93 页
    · 多晶材料弹性常数计算第89-91 页
    · 多晶材料X射线弹性常数计算第91-93 页
  · 丝织构对材料弹性常数及X射线弹性常数的影响第93-96 页
    · 丝织构对材料弹性常数的影响第93-94 页
    · 丝织构对X射线弹性常数的影响第94-96 页
  · 电沉积铜薄膜X射线弹性常数及应力计算第96-104 页
    · 铜薄膜X射线弹性常数计算第96-102 页
    · 铜薄膜应力计算第102-104 页
  · 铜薄膜应力测定误差计算第104-106 页
  · 铜薄膜力学行为研究第106-110 页
  · 本章小结第110-111 页
  参考文献第111-114 页
第5章 电沉积铜薄膜中的内应力第114-132 页
  · 电沉积工艺对铜薄膜内应力的影响第114-121 页
  · 内应力对薄膜织构的影响第121-126 页
  · 电沉积铜薄膜内应力调整第126-130 页
    · 超声波电沉积对铜薄膜内应力的影响第126-127 页
    · 后序低温处理对铜薄膜内应力的影响第127-130 页
  · 本章小结第130-131 页
  参考文献第131-132 页
第6章 结论与创新第132-135 页
  本文主要结论第132-134 页
  本文主要创新第134-135 页
攻读博士学位期间发表论文及申请专利第135-137 页
致谢第137-139 页

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