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电沉积铜薄膜中织构与内应力的研究
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电沉积铜薄膜中织构与内应力的研究
论文目录
 
摘要第1-5 页
ABSTRACT第5-11 页
第1章 绪论第11-39 页
　　· 铜的电沉积原理第11-13 页
　　　　· 电沉积的基本历程第12 页
　　　　· 铜电沉积的电极反应第12-13 页
　　· 电沉积铜薄膜的制备工艺第13-16 页
　　　　· 硫酸盐镀铜第13-14 页
　　　　· 氰化物碱性镀铜第14 页
　　　　· 无氰镀铜第14-16 页
　　· 电沉积铜薄膜的组织结构与性能第16-20 页
　　　　· 电沉积铜薄膜的组织结构第16-18 页
　　　　· 电沉积铜薄膜的性能第18-20 页
　　· 薄膜中织构及其表征第20-27 页
　　　　· 电沉积铜薄膜中的织构第20 页
　　　　· 电沉积薄膜择优取向理论第20-23 页
　　　　· 薄膜织构测量方法第23-27 页
　　· 薄膜中内应力及其表征第27-33 页
　　　　· 电沉积铜薄膜中的内应力第27-28 页
　　　　· 电沉积薄膜内应力理论第28-29 页
　　　　· 薄膜内应力测定方法第29-33 页
　　· 选题意义及研究内容第33-34 页
　　参考文献第34-39 页
第2章 材料及实验方法第39-53 页
　　· 材料制备及处理工艺第39-43 页
　　　　· 镀液组成第39-40 页
　　　　· 基底材料第40-43 页
　　　　· 超声波电沉积第43 页
　　　　· 后序低温处理第43 页
　　· 实验方法第43-46 页
　　　　· 形貌观察第43 页
　　　　· X射线衍射第43 页
　　　　· 织构测量第43-44 页
　　　　· 应力测定第44 页
　　　　· 电化学测试第44 页
　　　　· 力学性能测量第44-46 页
　　· 电沉积铜薄膜自回火时间第46-51 页
　　参考文献第51-53 页
第3章 电沉积铜薄膜中的织构第53-88 页
　　· 铜薄膜织构的XRD表征第53-56 页
　　· 电流密度和薄膜厚度对薄膜织构的影响第56-72 页
　　　　· 电流密度的影响第56-61 页
　　　　· 薄膜厚度的影响第61-64 页
　　　　· 铜薄膜电结晶初期的行为第64-72 页
　　· 添加剂对电沉积铜薄膜织构的影响第72-80 页
　　　　· 稀土铈盐第72-76 页
　　　　· 聚乙二醇(PEG)第76-78 页
　　　　· 乙二胺四乙酸二钠(EDTA)第78-80 页
　　· 超声波电沉积工艺对铜薄膜织构的影响第80-83 页
　　· 织构与薄膜的各向异性第83-85 页
　　· 本章小结第85-86 页
　　参考文献第86-88 页
第4章 铜薄膜X射线弹性常数计算第88-114 页
　　· 多晶材料弹性常数及X射线弹性常数计算第88-93 页
　　　　· 多晶材料弹性常数计算第89-91 页
　　　　· 多晶材料X射线弹性常数计算第91-93 页
　　· 丝织构对材料弹性常数及X射线弹性常数的影响第93-96 页
　　　　· 丝织构对材料弹性常数的影响第93-94 页
　　　　· 丝织构对X射线弹性常数的影响第94-96 页
　　· 电沉积铜薄膜X射线弹性常数及应力计算第96-104 页
　　　　· 铜薄膜X射线弹性常数计算第96-102 页
　　　　· 铜薄膜应力计算第102-104 页
　　· 铜薄膜应力测定误差计算第104-106 页
　　· 铜薄膜力学行为研究第106-110 页
　　· 本章小结第110-111 页
　　参考文献第111-114 页
第5章 电沉积铜薄膜中的内应力第114-132 页
　　· 电沉积工艺对铜薄膜内应力的影响第114-121 页
　　· 内应力对薄膜织构的影响第121-126 页
　　· 电沉积铜薄膜内应力调整第126-130 页
　　　　· 超声波电沉积对铜薄膜内应力的影响第126-127 页
　　　　· 后序低温处理对铜薄膜内应力的影响第127-130 页
　　· 本章小结第130-131 页
　　参考文献第131-132 页
第6章 结论与创新第132-135 页
　　本文主要结论第132-134 页
　　本文主要创新第134-135 页
攻读博士学位期间发表论文及申请专利第135-137 页
致谢第137-139 页

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