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VO2外延薄膜的相变调控研究

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VO2外延薄膜的相变调控研究
论文目录
 
摘要第1-7页
Abstract第7-12页
第一章 绪论第12-38页
  · 强关联体系简介第12-13页
  · VO_2简介第13-15页
  · VO_2相变特点第15-17页
  · VO_2研究体系第17-30页
    · 电场触发相变第17-19页
    · 外应力调控VO_2相变第19-20页
    · 界面应力调控VO_2相变第20-21页
    · 元素掺杂调控VO_2相变第21-22页
    · VO_2相变的物理机制探索第22-25页
    · 基于VO_2相变特性的应用第25-30页
  · 小结第30-32页
  参考文献第32-38页
第二章 VO_2薄膜的制备和表征第38-52页
  · VO_2薄膜的制备第38-45页
    · 脉冲激光沉积(PLD)第39-41页
    · 溶胶-凝胶法(sol-gel)第41-43页
    · 分子束外延(MBE)第43-45页
  · VO_2的结构形貌表征手段第45-49页
    · X射线衍射技术(XRD)第45-46页
    · X射线反射(XRR)第46-47页
    · 拉曼光谱(Raman)第47-48页
    · 原子力显微镜(AFM)第48-49页
  · VO_2的光电表征手段第49-51页
    · 变温电阻测试第49页
    · 傅里叶变换红外光谱(FTIR)第49-50页
    · 紫外-可见-近红外光谱第50-51页
  · 小结第51-52页
第三章 分子束外延设备与电子枪设计第52-68页
  · 分子束外延设备以及组件第52-53页
  · 真空系统第53-54页
  · 分子束外延原位原位观测第54-55页
  · 自聚焦电子束蒸发源的设计与改进第55-60页
  · 石墨烯生长第60-64页
  · 小结第64-66页
  参考文献第66-68页
第四章 基于VO_2的金属-绝缘转变场效应晶体管的性能及机理研究第68-88页
  · 研究背景介绍第68-75页
    · 概念简介第68-69页
    · MISFET的构型第69-71页
    · 物理机制第71-73页
    · 其他因素第73-75页
  · 离子液-VO_2场效应晶体管相关研究第75-84页
    · 离子液-VO_2场效应晶体管的电学特性第76-78页
    · 离子液-VO_2场效应晶体管的光学特性第78-79页
    · 离子液-VO_2场效应晶体管的结构特性第79-82页
    · 常温金属态VO_2和本征VO_2之间的转变第82-84页
  · 小结第84-85页
  参考文献第85-88页
第五章 H掺杂对VO_2相变的影响及其机理研究第88-106页
  · H-VO_2研究背景简介第88-92页
  · 外延薄膜的H-VO_2研究第92-103页
    · H-VO_2样品的制备第93-94页
    · H-VO_2的电学性质表征第94-97页
    · H-VO_2的结构变化表征第97-99页
    · H-O键的演变第99-101页
    · Raman光谱第101-102页
    · 第一性原理模拟计算第102-103页
  · 本章小结第103-104页
  参考文献第104-106页
第六章 总结与展望第106-112页
  · 离子液-VO_2体系第107-109页
  · H-VO_2体系第109-110页
  参考文献第110-112页
致谢第112-114页
在读期间发表的学术论文与取得的其它研究成果第114-115页

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