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外延薄膜的相变调控研究
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VO
2
外延薄膜的相变调控研究
论文目录
摘要
第1-7页
Abstract
第7-12页
第一章 绪论
第12-38页
· 强关联体系简介
第12-13页
· VO_2简介
第13-15页
· VO_2相变特点
第15-17页
· VO_2研究体系
第17-30页
· 电场触发相变
第17-19页
· 外应力调控VO_2相变
第19-20页
· 界面应力调控VO_2相变
第20-21页
· 元素掺杂调控VO_2相变
第21-22页
· VO_2相变的物理机制探索
第22-25页
· 基于VO_2相变特性的应用
第25-30页
· 小结
第30-32页
参考文献
第32-38页
第二章 VO_2薄膜的制备和表征
第38-52页
· VO_2薄膜的制备
第38-45页
· 脉冲激光沉积(PLD)
第39-41页
· 溶胶-凝胶法(sol-gel)
第41-43页
· 分子束外延(MBE)
第43-45页
· VO_2的结构形貌表征手段
第45-49页
· X射线衍射技术(XRD)
第45-46页
· X射线反射(XRR)
第46-47页
· 拉曼光谱(Raman)
第47-48页
· 原子力显微镜(AFM)
第48-49页
· VO_2的光电表征手段
第49-51页
· 变温电阻测试
第49页
· 傅里叶变换红外光谱(FTIR)
第49-50页
· 紫外-可见-近红外光谱
第50-51页
· 小结
第51-52页
第三章 分子束外延设备与电子枪设计
第52-68页
· 分子束外延设备以及组件
第52-53页
· 真空系统
第53-54页
· 分子束外延原位原位观测
第54-55页
· 自聚焦电子束蒸发源的设计与改进
第55-60页
· 石墨烯生长
第60-64页
· 小结
第64-66页
参考文献
第66-68页
第四章 基于VO_2的金属-绝缘转变场效应晶体管的性能及机理研究
第68-88页
· 研究背景介绍
第68-75页
· 概念简介
第68-69页
· MISFET的构型
第69-71页
· 物理机制
第71-73页
· 其他因素
第73-75页
· 离子液-VO_2场效应晶体管相关研究
第75-84页
· 离子液-VO_2场效应晶体管的电学特性
第76-78页
· 离子液-VO_2场效应晶体管的光学特性
第78-79页
· 离子液-VO_2场效应晶体管的结构特性
第79-82页
· 常温金属态VO_2和本征VO_2之间的转变
第82-84页
· 小结
第84-85页
参考文献
第85-88页
第五章 H掺杂对VO_2相变的影响及其机理研究
第88-106页
· H-VO_2研究背景简介
第88-92页
· 外延薄膜的H-VO_2研究
第92-103页
· H-VO_2样品的制备
第93-94页
· H-VO_2的电学性质表征
第94-97页
· H-VO_2的结构变化表征
第97-99页
· H-O键的演变
第99-101页
· Raman光谱
第101-102页
· 第一性原理模拟计算
第102-103页
· 本章小结
第103-104页
参考文献
第104-106页
第六章 总结与展望
第106-112页
· 离子液-VO_2体系
第107-109页
· H-VO_2体系
第109-110页
参考文献
第110-112页
致谢
第112-114页
在读期间发表的学术论文与取得的其它研究成果
第114-115页
本篇论文共
115
页,
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。
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