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磷酸体系中铜的电化学抛光机制与影响因素的研究

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磷酸体系中铜的电化学抛光机制与影响因素的研究
论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-13页
第1章 绪论第13-34页
  · 课题来源及背景第13-14页
  · 铜的物理及电化学性质第14-19页
  · 铜的电化学抛光机理研究进展第19-29页
    · 铜的电化学抛光模型第19-26页
    · 铜抛光过程的表面分析研究第26-29页
  · 铜抛光工艺的研究进展第29-32页
    · 铜电化学抛光工艺研究进展第29-31页
    · 铜电化学机械抛光工艺研究进展第31-32页
  · 本文的主要研究内容第32-34页
第2章 实验材料及研究方法第34-39页
  · 实验材料及设备第34页
  · 实验装置第34-36页
  · 电化学行为研究第36-37页
    · 电化学测试第36页
    · 旋转盘环电极测试第36-37页
  · 物理测试方法第37-39页
    · 表面粗糙度及轮廓图测试第37-38页
    · X 射线光电子能谱分析第38页
    · 扫描电镜分析第38-39页
第3章 铜在磷酸溶液中电化学抛光机制研究第39-63页
  · 铜在磷酸中的极化曲线研究第39-40页
  · 铜阳极极化过程中 RRDE 的研究第40-46页
  · 阻抗-时间及阻抗-电位曲线的研究第46-49页
  · 磷酸抛光表面元素分析第49-50页
  · 电化学阻抗的研究第50-60页
  · 铜在磷酸溶液中电化学抛光反应历程第60-61页
  · 本章小结第61-63页
第4章 铜电化学抛光工艺影响因素的研究第63-94页
  · 电化学抛光条件对铜表面抛光效果的影响第63-77页
    · 极化电位对铜表面粗糙度的影响第63-66页
    · 磷酸浓度对铜表面电化学抛光过程的影响第66-76页
    · 温度对铜表面电化学抛光过程的影响第76-77页
  · 甘油对铜表面电化学抛光过程的影响第77-81页
  · 硫酸对铜表面电化学抛光过程的影响第81-85页
  · 重铬酸钾对铜表面电化学抛光过程的影响第85-87页
  · 液体流动对铜的电化学行为影响第87-90页
    · 转速对腐蚀电位和腐蚀电流的影响第87-89页
    · 转速对溶液欧姆电阻的影响第89-90页
  · 压力对铜电化学行为的影响第90-93页
  · 本章小结第93-94页
第5章 添加剂对铜的电化学抛光的影响第94-114页
  · 表面活性剂对铜电化学抛光的影响第94-108页
    · SDS 对铜电化学抛光的影响第94-103页
    · PEG 对铜电化学抛光的影响第103-106页
    · PVP 对铜电化学抛光的影响第106-108页
  · 缓蚀剂对铜电化学抛光的影响第108-113页
    · BTA 对铜电化学抛光的影响第108-111页
    · TTA 对铜电化学抛光的影响第111-113页
  · 本章小结第113-114页
结论第114-115页
论文创新点第115页
展望第115-116页
参考文献第116-127页
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果第127-129页
致谢第129-130页
个人简历第130 页

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