ECR等离子体/离子束平台建设与硅基纳米材料的调控生长



ECR等离子体/离子束平台建设与硅基纳米材料的调控生长

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ECR等离子体/离子束平台建设与硅基纳米材料的调控生长

论文目录
摘要	第1-7页
Abstract	第7-12页
第一章绪论	第12-26页
· 高密度微波电子回旋共振等离子体源/离子源	第12-19页
· 高密度等离子体源现状	第12-15页
· 高密度ECR等离子体源/离子源介绍	第15-19页
· 硅基纳米线综述	第19-24页
· 硅基纳米线的应用前景	第19页
· 硅基纳米线的制备方法	第19-22页
· 纳米线的生长模式	第22-23页
· 等离子体化学气相沉积硅纳米线	第23-24页
· 本论文的主要工作	第24-26页
第二章高密度ECR等离子体/离子源实验平台建设	第26-53页
· ECR微波等离子体装置介绍	第26-34页
· 微波传输系统	第27-29页
· 磁场系统	第29-31页
· 真空维持及供气系统	第31页
· ECR等离子体的产生	第31-34页
· ECR等离子体的静电探针诊断	第34-42页
· 双探针诊断	第34-36页
· 不同磁场位形下的Ar等离子体参数	第36-39页
· 不同放电气体的比较	第39-40页
· 束孔对等离子体束的影响	第40-42页
· ECR等离子体离子源	第42-52页
· 离子源的要求和重要参数	第43-44页
· 离子源的物理技术问题	第44-45页
· 影响离子引出效果的各种因素	第45-48页
· ECR等离子体离子源的电极结构及测量系统	第48-49页
· 测量结果及分析	第49-52页
· 本章小结	第52-53页
第三章 ECR等离子体沉积硅基薄膜过程中的RF偏压效应	第53-66页
· 实验介绍	第53-54页
· ECR-RF双等离子体沉积氧化硅薄膜	第54-62页
· 氧化硅薄膜的制备	第54页
· 工艺参数对沉积速率的影响	第54-59页
· 射频频率对薄膜成分的影响	第59-62页
· ECR/RF等离子体沉积硅纳米线研究	第62-64页
· 硅纳米线的制备	第62-63页
· 硅纳米线的表征	第63-64页
· 本章小结	第64-66页
第四章 RF等离子体射流对硅基纳米线生长的影响	第66-75页
· 实验装置介绍	第66-67页
· 双平板型射频等离子体沉积硅基纳米线	第67-68页
· RF射流等离子体沉积硅基纳米线	第68-74页
· 射流等离子体放电性质	第68-69页
· 单频放电射流等离子体沉积纳米线	第69-70页
· 双频放电射流等离子体沉积纳米线	第70-73页
· 高HMDSO浓度下沉积的特殊纳米结构	第73-74页
· 本章小结	第74-75页
第五章 ECR等离子体沉积Co薄膜研究	第75-92页
· 磁学基础介绍	第75-82页
· 磁性分类	第75-79页
· 磁化与磁性材料分类	第79-81页
· 磁光克尔效应	第81-82页
· 实验方法	第82-84页
· Co薄膜特性	第84-91页
· XRD检测	第84-86页
· Co薄膜磁性测试	第86-90页
· 结果分析	第90-91页
· 本章小结	第91-92页
第六章总结与展望	第92-94页
· 本论文主要工作	第92-93页
· 进一步地研究方向	第93-94页
参考文献	第94-101页
致谢	第101-102页
攻读博士期间发表的学术论文	第102-103 页

本篇论文共103页，点击这进入下载页面。

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